18．高良姜素是姜科植物高良姜根中的提取物，它能使鼠傷寒沙門氏菌TA98和TA100發(fā)生誘變，具有抗病菌作用．下列關(guān)于高良姜素的敘述正確的是（　�。�
A．高良姜素的分子式為C15H15O5
B．高良姜素分子中含有3個(gè)羥基、8個(gè)雙鍵
C．高良姜素能與碳酸鈉溶液、溴水、酸性高錳酸鉀溶液等反應(yīng)
D．1mol高良姜素與足量的鈉反應(yīng)生成33.6LH2

分析 有機(jī)物含有酚羥基、羰基、羥基和碳碳雙鍵，結(jié)合苯酚、酮、醇以及烯烴的性質(zhì)解答該題．

解答 解：A．由結(jié)構(gòu)簡式可知高良姜素的分子式為C15H12O5，故A錯(cuò)誤；
B．分子含有兩個(gè)苯環(huán)，只有1個(gè)碳碳雙鍵，故B錯(cuò)誤；
C．含有酚羥基，可與碳酸鈉溶液反應(yīng)、溴水反應(yīng)，含有碳碳雙鍵，可與溴水發(fā)生加成反應(yīng)，可被酸性高錳酸鉀氧化，故C正確；
D．含有3個(gè)羥基，但生成氫氣存在的外界條件未知，不能確定體積大小，故D錯(cuò)誤．
故選C．

點(diǎn)評(píng) 本題考查有機(jī)物的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)，側(cè)重于有機(jī)物的組成、結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的考查，注意有機(jī)物空間結(jié)構(gòu)特點(diǎn)的判斷，把握有機(jī)物的官能團(tuán)的種類和性質(zhì)，為解答該題的關(guān)鍵，易錯(cuò)點(diǎn)為D，注意氣體存在的外界條件的判斷，題目難度不大．

練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：實(shí)驗(yàn)題

8．ClO2是一種高效水處理劑，某實(shí)驗(yàn)小組用如圖所示裝置制取并收集ClO2．已知：
信息內(nèi)容
①ClO2為黃綠色氣體，極易溶于水，熔點(diǎn)為-59℃，沸點(diǎn)為11℃，具有強(qiáng)氧化性
②ClO2易爆炸，若用惰性氣體等稀釋，則爆炸的可能性大降低
③HClO4、HClO2均是強(qiáng)酸，HClO4為無色透明液體，沸點(diǎn)為90℃；HClO2很不穩(wěn)定，容易分解
（1）儀器a名稱是圓底燒瓶．裝置A中反應(yīng)的化學(xué)方程式為2KClO3+H2C2O4=K2CO3+CO2↑+2ClO2↑+H2O．用H2C2O4、稀硫酸和KClO3制備ClO2的最大優(yōu)點(diǎn)是二氧化氯被二氧化碳稀釋，可防止二氧化氯爆炸．
（2）裝置C的作用是防止倒吸，裝置B中用冰水浴的目的是冷凝并分離出二氧化氯．
（3）工業(yè)上生產(chǎn)HClO4和NaClO2的工藝流程如圖所示．

①操作2的名稱是蒸餾；
②設(shè)計(jì)簡單實(shí)驗(yàn)證明HClO2為弱酸：在常溫下測定NaClO2溶液的PH值，若PH值大于7，則為HClO2弱酸．
（4）ClO2很不穩(wěn)定，需用隨制，產(chǎn)物用水吸收得到ClO2溶液，為測定所得溶液中ClO2的含量，進(jìn)行下列實(shí)驗(yàn)：
步驟1：準(zhǔn)確量取V1 mLClO2溶液于錐形瓶中．
步驟2：用稀硫酸調(diào)節(jié)ClO2溶液的pH≤2.0，加入足量的KI晶體，靜置片刻．
步驟3：加入指示劑，用c mol•L-1•的Na2S2O3溶液滴定至終點(diǎn)，消耗Na2S2O3溶液V2mL．
實(shí)驗(yàn)中加入的指示劑是淀粉溶液，達(dá)到滴定終點(diǎn)時(shí)的現(xiàn)象是溶液由藍(lán)色變?yōu)闊o色，且保持30s不變．
原溶液中ClO2的含量為$\frac{13.5cV{\;}_{2}}{V{\;}_{1}}$g/L（用含字母的代數(shù)式表示）g•L-1．（已知：2ClO2+8H++10I-═2Cl-+5I2+4H2，2S2O32-+I2═2I-+S2O32-）

查看答案和解析>>

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：選擇題

9．在密閉容器中盛有H2、O2、Cl2三種氣體，電火花點(diǎn)燃后，三種氣體都正好反應(yīng)完全，冷卻到室溫，所得溶液的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為25.26%，則原混合氣體中三者的分子個(gè)數(shù)之比為（　�。�
A．15：8：1B．13：6：1C．9：6：1D．6：3：1

查看答案和解析>>

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：選擇題

6．設(shè)NA為阿伏伽德羅常數(shù)的值，下列說法正確的是（　�。�
A．1mol苯分子中含有C═C鍵的數(shù)目為3NA
B．含1molNa2CO3的溶液中，陰離子總數(shù)大于NA
C．1molFeI2與足量氯氣反應(yīng)時(shí)轉(zhuǎn)移的電子數(shù)為2NA
D．標(biāo)準(zhǔn)狀況下，22.4L空氣中含有的氧原子數(shù)為2NA

查看答案和解析>>

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：解答題

13．元素單質(zhì)及其化合物有廣泛用途，請(qǐng)根據(jù)周期表中第三周期元素相關(guān)知識(shí)回答下列問題：
（1）按原子序數(shù)遞增的順序（稀有氣體除外），以下說法正確的是b．
a．原子序數(shù)和離子半徑均減小               b．金屬性減弱，非金屬性增強(qiáng)
c．氧化物對(duì)應(yīng)的水合物堿性減弱，酸性增強(qiáng)    d．單質(zhì)的熔點(diǎn)降低
（2）原子最外層電子數(shù)與次外層電子數(shù)相同的元素名稱為氬
（3）已知：
化合物MgOAl2O3MgCl2AlCl3
類型離子化合物離子化合物離子化合物共價(jià)化合物
熔點(diǎn)/℃28002050714191
工業(yè)制鎂時(shí)的反應(yīng)方程式是MgCl2$\frac{\underline{\;電解\;}}{\;}$Mg+Cl2↑；制鋁時(shí)，電解Al2O3不電解AlCl3的原因是熔融狀態(tài)下氯化鋁以分子存在，不導(dǎo)電，所以用電解熔融氧化鋁的方法冶煉．
（4）晶體硅（熔點(diǎn)1410℃）是良好的半導(dǎo)體材料．由粗硅制純硅過程如下：
Si（粗）$→_{460}^{Cl_{2}}$SiCl4$\stackrel{蒸餾}{→}$SiCl4（純）$→_{1100℃}^{H_{2}}$Si（純）
寫出SiCl4的電子式：；在上述由SiCl4制純硅的反應(yīng)中，測得每生成1.12kg純硅需吸收akJ熱量，該反應(yīng)的熱化學(xué)方程式：SiCl4（g）+2H2（g）$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si（s）+4HCl（g）△H=-0.025kJ/mol
（5）P2O5是非氧化性干燥劑，下列氣體不能用濃硫酸干燥，可用P2O5干燥的b：
a． NH3        b． HI        c． SO2      d． CO2
（6）KClO3可用于實(shí)驗(yàn)室制O2，若不加催化劑，400℃時(shí)分解只生成兩種鹽，其中一種是無氧酸鹽，另一種鹽的陰陽離子個(gè)數(shù)比為1：1．寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式：4KClO3$\frac{\underline{\;400℃\;}}{\;}$KCl+3KClO4．

查看答案和解析>>

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：解答題

3．使用SNCR脫硝技術(shù)的主反應(yīng)為：
4NH3（g）+4NO（g）+O2（g）4N2（g）+6H2O（g）；△H
副反應(yīng)及773K時(shí)平衡常數(shù)如表所示
反應(yīng)△H（kJ•mol-1）平衡常數(shù)（K）
4NH3 （g）+5O2 （g）?4NO （g）+6H2O （g）-905.51.1×1026mol•L-1
4NH3 （g）+4O2 （g）?2N2O （g）+6H2O （g）-1104.94.4×1028
  4NH3 （g）+3O2 （g）?2N2 （g）+6H2O （g）-1269.07.1×1034L•mol-1
（1）主反應(yīng)△H=-1632.5kJ•mol-1，773K時(shí)主反應(yīng)平衡常數(shù)K=4.6×1043L•mol-1
（2）圖2表示在密閉體系中進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，起始投入一定量NH3、NO、O2，測定不同溫度下，在相同時(shí)間內(nèi)各組分的濃度．
①圖中a、b、c三點(diǎn)，主反應(yīng)速率最大的是c
②試解釋N2濃度曲線先上升后下降的原因先上升：反應(yīng)還未到達(dá)平衡狀態(tài)，溫度越高，化學(xué)反應(yīng)速率越快，單位時(shí)間內(nèi)N2濃度越大；后下降：達(dá)到平衡狀態(tài)后，隨著溫度升高，因反應(yīng)正向放熱，平衡逆向移動(dòng)，且隨溫度升高有副產(chǎn)物的生成，N2濃度降低．
③550K時(shí)，欲提高N2O的百分含量，應(yīng)采取的措施是采用合適的催化劑
（3）電化學(xué)催化凈化NO是一種最新脫硝方法．原理示意圖如圖1，固體電解質(zhì)起到傳導(dǎo)O2-的作
用．
A為外接電源的負(fù)極（填“正”、“負(fù)”）．通入NO的電極反應(yīng)式為2NO+4e-=N2+2O2-．

查看答案和解析>>

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：解答題

10．金屬的表面處理可以使金屬制品美觀耐用，我國2000多年前就已經(jīng)掌握化學(xué)鍍鉻即鉻鹽氧化處理技術(shù)，現(xiàn)代工業(yè)中常采用電鍍或化學(xué)鍍進(jìn)行金屬表面處理．請(qǐng)回答：
（1）化學(xué)鍍金是借助合適的還原劑，使鍍液中金屬離子還原沉積到金屬表面．如化學(xué)鍍鎳是在酸性環(huán)境下以NaH2PO2為還原劑（氧化生成NaH2PO3）使Ni2+還原，其離子方程式為Ni2++H2PO2-+H2O=Ni+H2PO3-+2H+；

（2）工業(yè)上進(jìn)行電鍍時(shí)，待鍍金屬作為陰極．電鍍鉻若采用Cr3+的簡單水溶液，電鍍過程中陰極附近的pH與電鍍時(shí)間的關(guān)系如圖1，pH變化的原因是H+參與放電，上述過程的發(fā)生對(duì)鍍層產(chǎn)生的影響是鍍層變薄且不均勻；
（3）為防止上述過程發(fā)生，電鍍鉻可以在硫酸鹽溶液體系中進(jìn)行，圖2為硫酸鹽溶液中Cr3+的濃度對(duì)鍍層厚度和覆蓋范圍的影響，隨厚度增加，鍍層覆蓋范圍變化的原因可能是Cr3+濃度增加會(huì)使鍍層加厚，但濃度增加鉻晶粒變大使覆蓋范圍變��；
（4）綜合考慮鍍層厚度及覆蓋范圍，電鍍鉻時(shí)溫度以30～40℃為佳，工業(yè)上控制反應(yīng)溫度的設(shè)備名稱為熱交換器；電鍍鉻的過程中陽極會(huì)產(chǎn)生部分Cr2O72-，可以加入AB（填字母）除去；
A．H2O2   B．Na2SO3    C．FeSO4
（5）工業(yè)采用含Cr3+為3.25g/L的電解液電鍍鉻，則溶液pH不能大于4．（已知：35℃時(shí)，Kw=2.0×10-14，Ksp[Cr（OH）3]=5.0×10-31）

查看答案和解析>>

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：選擇題

7．下列有關(guān)溶液組成的描述合理的是（　�。�
A．由水電離出的c（H+）=10-13mol/L的溶液中可能存在：HCO3-、K+、Cl-
B．酸性溶液中可能大量存在Na+、ClO-、I-
C．pH=l的溶液中的溶液中可以大量存在：K+、I-、NO3-
D．NH4Fe（SO4）2的溶液中一定可以存在：H+、Br-

查看答案和解析>>

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：選擇題

8．用32gCu與300mL12mol/L的濃硝酸反應(yīng)，當(dāng)銅全部溶解后，共收集到標(biāo)準(zhǔn)狀況下的氣體11.2L（不考慮NO2轉(zhuǎn)化為N2O4），反應(yīng)消耗的硝酸的物質(zhì)的量是（　�。�
A．1.5molB．1.8molC．3.3molD．3.6mol

查看答案和解析>>

同步練習(xí)冊(cè)答案