Question

【題目】短周期原子序數(shù)依次遞增的A、B、C、D、E、F六種元素，已知B原子最外層電子數(shù)是A原子次外層電子數(shù)的3倍，是D原子最外層電子數(shù)的2倍；C原子內(nèi)層電子總數(shù)是最外層電子數(shù)10倍；A、B、D三種元素的原子最外層電子數(shù)之和為13；A和B原子最外層電子數(shù)之和與D和F原子最外層電子數(shù)之和相等；D和E是相鄰兩種元素。回答下列問題：

（1）E元素的名稱： ；其在元素周期表中的位置是 。

（2）AB2的結(jié)構(gòu)式 ；B的氫化物中原子個(gè)數(shù)比1:1化合物的電子式 。

（3）A和E元素的最高價(jià)含氧酸的酸性較強(qiáng)的是 ；（填化學(xué)式）

（4）B、C、D、F四種元素原子半徑由大到小的順序是 （填元素符號(hào)），離子半徑最小的是 （填離子符號(hào)）。

（5）A、B、C三種元素組成原子個(gè)數(shù)比為nA：nB：nC=1：3：2的化合物，將足量AB2通入該化合物溶液中反應(yīng)的離子方程式是 。

（6）短周期元素M與D元素位于不同主族，根據(jù)對(duì)角線規(guī)則二者某些性質(zhì)相似。將M的最高價(jià)氧化物溶于C的最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物溶液中，發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為 。

（7）E和F形成的化合物X在高溫條件下可以被氫氣還原，工業(yè)上常用此反應(yīng)制取高純度的單質(zhì)E，寫出該化學(xué)反應(yīng)的方程式 。

Answer 1

【答案】（14分）（1）硅；第三周期第IV族；（2）C＝O＝C；；（3）H2CO3；

（4）Na＞Al＞Cl＞O；Al3+；（5）CO2＋CO32－＋2H2O＝2HCO3－；

（6）BeO＋2OH－＝BeO22－＋H2O；（7）SiCl4＋2H2Si＋4HCl↑。

【解析】試題分析：已知B原子最外層電子數(shù)是A原子次外層電子數(shù)的3倍，是D原子最外層電子數(shù)的2倍，說明B元素最外層電子數(shù)為6，D原子最外層電子數(shù)為3，A的次外層電子數(shù)為2；C原子內(nèi)層電子總數(shù)是最外層電子數(shù)10倍，則C為Na；A、B、D三種元素的原子最外層電子數(shù)之和為13，則A的最外層為13-6-3=4，所以A的核外電子數(shù)為2+4=6為C元素；A和B原子最外層電子數(shù)與D和F原子最外層電子數(shù)之和相等，則F的最外層為7，F的原子序數(shù)最大，應(yīng)為Cl元素；D和E是相鄰兩種元素，D原子最外層電子數(shù)為3，所以D為Al元素，E為Si元素；B元素最外層電子數(shù)為6，且原子序數(shù)比Na，則為O元素，綜上可知：A為C元素，B為O元素，C為Na元素，D為Al元素，E為Si元素，F為Cl元素。（1）已知E為Si元素，則其其在元素周期表中的位置是第三周期第IV族；（2）AB2是CO2，其結(jié)構(gòu)式是O=C=O；B的氫化物中原子個(gè)數(shù)比1:1化合物是H2O2，其電子式是；（3）A和E元素的非金屬性C>Si，所以二者最高價(jià)含氧酸的酸性較強(qiáng)的是H2CO3；（4）同一周期的元素，原子序數(shù)越大，原子半徑越小，不同周期的元素，原子核外電子層數(shù)越多，原子半徑越大，所以B、C、D、F四種元素原子半徑由大到小的順序是Na＞Al＞Cl＞O；，對(duì)于電子層結(jié)構(gòu)相同的離子來說，核電荷數(shù)越大，離子半徑就越小，因此上述元素形成的離子中，離子半徑最小的是Al3+；（5）由A、B、C三種元素組成原子個(gè)數(shù)比nA：nB：nC=1：3：2的化合物為Na2CO3，將足量CO2通入該化合物溶液中反應(yīng)產(chǎn)生NaHCO3，反應(yīng)的離子方程式是CO2＋CO32－＋2H2O＝2HCO3－；（6）短周期元素M與D元素位于不同主族，根據(jù)對(duì)角線規(guī)則二者某些性質(zhì)相似。將M的最高價(jià)氧化物溶于C的最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物溶液中，則M是Be元素，M的最高價(jià)氧化物BeO與NaOH溶液發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為BeO＋2OH－＝BeO22－＋H2O；（7）E和F形成的化合物X是SiCl4，在高溫條件下可以被氫氣還原產(chǎn)生Si單質(zhì)及HCl，工業(yè)上常用此反應(yīng)制取高純度的單質(zhì)E，該化學(xué)反應(yīng)的方程式SiCl4＋2H2Si＋4HCl↑。