石墨烯(如圖甲)是一種由單層碳原子構成的平面結構新型碳材料,石墨烯中部分碳原子被氧化后,其平面結構會發(fā)生改變,轉化為氧化石墨烯(如圖乙).
(1)圖甲中,1號C與相鄰C形成σ鍵的個數(shù)為 _________ .
(2)圖乙中,1號C的雜化方式是 _________ ,該C與相鄰C形成的鍵角 _________ (填“>”“<”或“=”)圖甲中1號C與相鄰C形成的鍵角.
(3)若將圖乙所示的氧化石墨烯分散在H2O中,則氧化石墨烯中可與H2O形成氫鍵的原子有 _________ (填元素符號).
(4)石墨烯可轉化為富勒烯(C60),某金屬M與C60可制備一種低溫超導材料,晶胞如圖丙所示,M原子位于晶胞的棱上與內部,該晶胞中M原子的個數(shù)為 _________ ,該材料的化學式為 _________ .
科目:高中化學 來源: 題型:
化學用語是學習化學的重要工具,下列化學用語中,正確的是
A. NH4+的水解反應離子方程式:NH4+ + H2O NH3·H2O + H+
B.在AgCl懸濁液中加入KI溶液充分振蕩:Ag+ + I- = AgI↓
C.鍍銅時,陽極的電極反應式為: Cu2++2e- == Cu
D.某反應⊿H<0,則該反應在任意條件下均可自發(fā)進行。
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科目:高中化學 來源: 題型:
由熔鹽電解法獲得的粗鋁含有一定量的金屬鈉和氫氣,這些雜質可采用吹氣精煉法除去,產(chǎn)生的尾氣經(jīng)處理后可用鋼材鍍鋁。工藝流程如下:
(注:NaCl熔點為801 ℃;AlCl3在181 ℃升華)
(1)精煉前,需清除坩堝表面的氧化鐵和石英砂,防止精煉時它們分別與鋁發(fā)生置換反應產(chǎn)生新的雜質,相關的化學方程式為①_____________和
②___________________。
(2)將Cl2連續(xù)通入坩堝中的粗鋁熔體,雜質隨氣泡上浮除去。氣泡的主要成分除Cl2外還含有_____________;
固態(tài)雜質粘附于氣泡上,在熔體表面形成浮渣,浮渣中肯定存在________________。
(3)在用廢堿液處理A的過程中,所發(fā)生反應的離子方程式為_____________。
(4)鋼材鍍鋁后,表面形成的致密氧化鋁膜能防止鋼材腐蝕,其原因是____________。
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科目:高中化學 來源: 題型:
工業(yè)上生產(chǎn)硫酸的流程圖如下:
請回答下列問題:
(1)早期生產(chǎn)硫酸以黃鐵礦為原料,但現(xiàn)在工廠生產(chǎn)硫酸以硫黃為原料,理由是________________________________________________________________________。
(2)在氣體進入催化反應室前需凈化的原因是_________________________________
________________________________________________________________________。
(3)在催化反應室中通常使用常壓,在此條件下SO2的轉化率為90%。但是部分發(fā)達國家采取高壓條件下制取SO3,采取加壓措施的目的除了加快反應速率外,還可以____________________________,從而提高生產(chǎn)效率。
(4)工業(yè)生產(chǎn)中常用氨—酸法進行尾氣脫硫,以達到消除污染,廢物利用的目的。用化學方程式表示其反應原理:____________________________________________________
________________________________________________________________________
________________________________________________________________________。
(5)除硫酸工業(yè)外,還有許多工業(yè)生產(chǎn)。下列相關的工業(yè)生產(chǎn)流程中正確的是________。
A.海水提溴:海水濃縮溴蒸氣液溴
B.海水提鎂:海灘貝殼石灰水MgO鎂
C.工業(yè)制硝酸:空氣NO2硝酸—→尾氣處理
D.工業(yè)合成氨:天然氣氫氣NH3、H2、N2氨
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科目:高中化學 來源: 題型:
現(xiàn)有幾組物質的熔點( ℃)數(shù)據(jù):
A組 | B組 | C組 | D組 |
金剛石:3 550 ℃ | Li:181 ℃ | HF:-83 ℃ | NaCl:801 ℃ |
硅晶體:1 410 ℃ | Na:98 ℃ | HCl:-115 ℃ | KCl:776 ℃ |
硼晶體:2 300 ℃ | K:64 ℃ | HBr:-89 ℃ | RbCl:718 ℃ |
二氧化硅:1 723 ℃ | Rb:39 ℃ | HI:-51 ℃ | CsCl:645 ℃ |
據(jù)此回答下列問題:
(1)A組屬于________晶體,其熔化時克服的微粒間的作用力是____________________。
(2)B組晶體共同的物理性質是________(填序號)。
①有金屬光澤、趯щ娦浴、蹖嵝浴、苎诱剐
(3)C組中HF熔點反常是由于_________________。
(4)D組晶體可能具有的性質是________(填序號)。
①硬度小 ②水溶液能導電、酃腆w能導電 ④熔融狀態(tài)能導電
(5)D組晶體的熔點由高到低的順序為NaCl>KCl>RbCl>CsCl,其原因為___________。
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科目:高中化學 來源: 題型:
元素H、C、N、O、F都是重要的非金屬元素,Fe、Cu是應用非常廣泛的金屬。
(1)Fe元素基態(tài)原子的核外電子排布式為 。
(2)C、H元素形成的化合物分子中共有16個電子,該分子中σ鍵與π鍵的個數(shù)比為 。
(3)C、N、O三種元素的第一電離能由大到小的順序為(用元素符號表示) 。
(4)在測定HF的相對分子質量時,實驗測得值一般高于理論值,其主要原因是
。
(5)C、N兩元素形成的化合物C3N4形成的原子晶體,結構類似金剛石,甚至硬度超過金剛石,其原因是
。
(6)如圖為石墨晶胞結構示意圖,該晶胞中含有C原子的個數(shù)為 。
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科目:高中化學 來源: 題型:
原子序數(shù)由小到大排列的四種短周期元素X、Y、Z、W,其中X、Z、W與氫元素可組成XH3、H2Z和HW共價化合物;Y與氧元素可組成Y2O和Y2O2離子化合物。
(1)寫出Y2O2的電子式:_____________________,
其中含有的化學鍵是______________,屬于晶體類型為________。
(2)用電子式表示Y2O的形成過程______________________。
(3)X、Z、W三種元素的最高價氧化物對應的水化物中,稀溶液氧化性最強的是________(填化學式)。
(4)XH3、H2Z和HW三種化合物,其空間構型分別為________、________、________。其中一種與另外兩種都能反應的是______________(填化學式),其生成物晶體類型分別屬于________、________。
(5)由X、W組成的化合物分子中,X、W原子的最外層均達到8電子穩(wěn)定結構,該化合物遇水可生成一種具有漂白性的化合物,試寫出反應的化學方程式__________________________。
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科目:高中化學 來源: 題型:
在273 K和101 kPa的條件下,將2.00 g氦氣、1.40 g氮氣和1.60 g氧氣混合,該混合氣體的體積是
A.6.72 L B.7.84 L C.10.08 L D.13.44 L
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