銅單質(zhì)及其化合物在很多領(lǐng)域有重要的用途,如金屬銅用來制造電線電纜,五水硫酸銅可用作殺菌劑。

(1)Cu位于元素周期表第ⅠB族。Cu2的核外電子排布式為    。

(2)往硫酸銅溶液中加入過量氨水,可生成[Cu(NH34]2配離子。已知

NF3與NH3的空間構(gòu)型都是三角錐形,但NF3不易與Cu2形成配離子,其原

因是_____________________________________________________________。


解析。1)Cu(電子排布式為[Ar]3d104s1)―→Cu2的過程中,參與反應(yīng)的

電子是最外層4s及3d上的各一個(gè)電子,故Cu2的電子排布式為[Ar]3d9

1s22s22p63s23p63d9。

(2)N、F、H三種元素的電負(fù)性:F>N>H,所以NH3中共用電子對偏向

N,而在NF3中,共用電子對偏向F,偏離N原子。

答案。1)[Ar]3d9或1s22s22p63s23p63d9

(2)N、F、H三種元素的電負(fù)性:F>N>H,在NF3中,共用電子對偏向

F,偏離N原子,使得氮原子上的孤電子對難與Cu2形成配位鍵


練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

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下列物質(zhì)屬于同分異構(gòu)體的一組是(  )

A.麥芽糖和蔗糖

B.

C.C2H6與C3H8

D.O2與O3

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NaCl晶體模型如圖所示,在NaCl晶NaCl的晶體結(jié)構(gòu)體中,每個(gè)Na周圍同時(shí)吸引________個(gè)Cl,每個(gè)Cl周圍也同時(shí)吸引著________個(gè)Na;在NaCl晶胞中含有________個(gè)Na、________個(gè)Cl,晶體中每個(gè)Na周圍與它距離最近且相等的Na共有________個(gè)。

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X、Y、Z、Q、E五種元素中,X原子核外的M層中只有兩對成對電子,Y原子核外的L層電子數(shù)是K層的兩倍,Z是地殼內(nèi)含量(質(zhì)量分?jǐn)?shù))最高的元素,Q的核電荷數(shù)是X與Z的核電荷數(shù)之和,E在元素周期表的各元素中電負(fù)性最大。請回答下列問題:

(1)X、Y的元素符號依次為________、________;

(2)XZ2與YZ2分子的立體構(gòu)型分別是________和________,相同條件下兩者

在水中的溶解度較大的是________(寫分子式),理由是__________________;

(3)Q的元素符號是________,它屬于第________周期,它的核外電子排布式

為____________________________,在形成化合物時(shí)它的最高化合價(jià)為

________;

(4)用氫鍵表示式寫出E的氫化物的水溶液中存在的所有氫鍵_____________。

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向下列配合物的水溶液中加入AgNO3溶液不能生成AgCl沉淀的是   (  )。

A.[Co(NH34Cl2]Cl      B.[Co(NH33Cl3]

C.[Co(NH36]Cl3            D.[Co(NH35Cl]Cl2

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在制玻璃的原料中,再加入下列物質(zhì)后,可制得各種不同用途的玻璃:

A.氧化亞銅(Cu2O)              B.氧化鈷(Co2O3)

C.氧化鉛(PbO)                 D.硼砂(Na2B4O7·10H2O)

(1)制造化學(xué)儀器的玻璃需加入的物質(zhì)是______。

(2)制造光學(xué)儀器的玻璃需加入的物質(zhì)是______。

(3)制造藍(lán)色玻璃需加入的物質(zhì)是____________。

(4)制造紅色玻璃需加入的物質(zhì)是____________。

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單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用焦炭在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450~500 ℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置示意圖。

相關(guān)信息如下:

a.四氯化硅遇水極易水解;

b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;

c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:

物 質(zhì)

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸點(diǎn)/℃

57.7

12.8

315

熔點(diǎn)/℃

-70.0

-107.2

升華溫度/℃

180

300

162

請回答下列問題:

(1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式  ____________________________。

(2)裝置A中g(shù)管的作用是________;裝置C中的試劑是________;裝置E中的h瓶需要冷卻的理由是________________________________________。

(3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是________(填寫元素符號)。

(4)為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預(yù)處理,使鐵元素還原成

Fe2,再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進(jìn)行氧化還原滴定,反應(yīng)的離子方程式是:5Fe2+MnO4+8H===5Fe3+Mn2+4H2O

①       滴定前是否要滴加指示劑?________(填“是”或“否”),請說明理由  

______________________。

②某同學(xué)稱取5.000 g殘留物,經(jīng)預(yù)處理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL試樣溶液,用1.000×10-2 mol·L-1 KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定。達(dá)到滴定終點(diǎn)時(shí),消耗標(biāo)準(zhǔn)溶液20.00 mL,則殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是________。

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下列關(guān)于化學(xué)反應(yīng)限度的說法中正確的是()

    A. 平衡狀態(tài)是一種靜止的狀態(tài),因?yàn)榉磻?yīng)物和生成物的濃度已經(jīng)不再改變

    B. 化學(xué)反應(yīng)的限度不可以通過改變條件而改變

    C. 當(dāng)一個(gè)可逆反應(yīng)達(dá)到平衡狀態(tài)時(shí),這就是這個(gè)反應(yīng)所能達(dá)到的限度

    D. 當(dāng)一個(gè)可逆反應(yīng)達(dá)到平衡狀態(tài)時(shí),那么這個(gè)反應(yīng)的正反應(yīng)速率和逆反應(yīng)速率為零

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如圖是一個(gè)化學(xué)過程的示意圖.已知甲池的總反應(yīng)式為:

2CH3OH+3O2+4KOH═2K2CO3+6H2O

(1)寫出下列電極反應(yīng)式:通入CH3OH 的電極的電極反應(yīng)式

是:  ,B(石墨)電極的電極反應(yīng)式為:  

(2)乙池中反應(yīng)的化學(xué)方程式為  

(3)當(dāng)乙池中A(Fe)極的質(zhì)量增加5.40g時(shí),甲池中理論上轉(zhuǎn)移電子  mol.

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