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【題目】T℃時,A氣體與B氣體反應生成C氣體,反應過程中A、B、C濃度變化如圖(I)所示,若保持其他條件不變,溫度分別為T1T2時,B的體積分數與時間的關系如圖(II)所示。根據以上條件,回答下列問題:

(1)該反應的化學方程式為________________________

(2)該反應的平衡常數表達式為__________T℃時,平衡常數的數值為(保留一位小數)___________;

(3)該反應為_________(吸熱放熱”)反應

(4)t1min后,改變下列某一條件,能使平衡向逆反應方向移動的有_____(填字母)

A.保持其他條件不變,增大壓強 B.保持容器總體積不變,通入少量稀有氣體

C.保持其他條件不變,升高溫度 D.保持其他條件不變,降低溫度

【答案】A (g)+ 3C(g)2B (g) 533.3 吸熱 D

【解析】

(1)由圖()可知,AC的物質的量濃度減小,B的物質的量濃度增加,則A、C為反應物,B為生成物,由反應的濃度的變化之比等于化學計量數之比判斷反應的化學方程式;

(2)結合平衡常數的概念寫出表達式,再根據達到平衡時各組分的濃度及平衡常數表達式計算出T℃時該反應化學平衡常數K

(3)由圖()可知T1T2,升高溫度平衡時B的體積分數增大,說明升高溫度平衡向正反應方向移動,據此判斷該反應是吸熱還是放熱反應;

(4)該反應為吸熱反應,根據壓強、溫度、稀有氣體對反應A (g)+ 3C(g)2B (g)的影響進行判斷。

(1)由圖()可知,AC的物質的量濃度減小,B的物質的量濃度增加,則A、C為反應物,B為生成物,由反應的濃度的變化之比等于化學計量數之比可得:c(A)c(C)c(B)=0.2mol/L0.6mol/L0.4mol/L=132,則反應的化學方程式為:A (g)+ 3C(g)2B (g);

(2)根據圖象可知,達到平衡時各組分的濃度為:c(A)=0.3mol/L,c(C)=0.1mol/L,c(B)=0.4mol/LT℃時,該反應化學平衡常數K2==≈533.3;

(3)由圖()可知T1T2,升高溫度平衡時B的體積分數增大,說明升高溫度平衡向正反應方向移動,正反應為吸熱反應;

(4)A.保持其他條件不變,增大壓強,平衡向正反應方向移動,故A錯誤;

B 保持容器總體積不變,通入少量稀有氣體,各組分的濃度不變,平衡不發(fā)生移動,故B錯誤;

C.該反應為吸熱反應,升高溫度平衡向正反應方向移動,故C錯誤;

D.該反應為吸熱反應,降低溫度平衡向逆反應方向移動,故D正確;

故答案為D。

練習冊系列答案
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(1)CO可以合成甲醇。

已知: CH3OH(g)+3/2 O2(g)=CO2(g)+2H2O(l) H1

CO(g)+1/2O2(g)=CO2(g) H2

H2(g)+1/2O2(g)=H2O(l) H3

請寫出由COH2形成CH3OH的熱化學方程式___________________________________________

(2)—定壓強下,在容積為2L的密閉容器中充入1mol CO2mol H2,在催化劑作用下發(fā)生反應:

CO(g) +2H2(g)CH3OH(g) H,CO轉化率與溫度、壓強的關系如圖所示:

①下列說法正確的是__________

A.若容器內氣體密度恒定,反應達到平衡狀態(tài)

B.若容器內各氣體平均相對分子質量恒定,反應達到平衡狀態(tài)

C.v(CO)=v(CH3OH)時,反應達到平衡狀態(tài)

D.反應中,催化劑使平衡向正反應方向移動

②該反應的△H________0,p2_______________p1(大于”“小于等于”)。

100℃時,該反應的化學平衡常數K=__________.

II:甲醇是一種燃料,也可以作為燃料電池的原料

(3)甲醇直接燃燒會產生一定的污染,某實驗小組依據甲醇燃燒的反應原理,設計如圖所示的電池裝置,則電池正極的電極反應式:______,該電池工作時,溶液中的OH-______極移動,該電池工作一段時間后,測得溶液的pH減小,則該電池總反應的離子方程式為_______________________________________;

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(1)甲組的同學擬制備原料氣NO和Cl2,制備裝置如下圖所示:

為制備純凈干燥的氣體,下表中缺少的藥品是:

裝置Ⅰ

裝置Ⅱ

燒瓶中

分液漏斗中

制備純凈Cl2

MnO2

___

___

制備純凈NO

Cu

___

___

(2)乙組同學利用甲組制得的NO和Cl2制備NOCl,裝置如圖所示:

①裝置連接順序為a→________(按氣流自左向右方向,用小寫字母表示)。

②裝置Ⅳ、Ⅴ除可進一步干燥NO、Cl2外,另一個作用是____________

③裝置Ⅶ的作用是____________。

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【題目】高聚物H可用于光刻工藝中,作抗腐蝕涂層。下面是高聚物H的合成路線:

.反應③屬于加聚反應 .D屬于高分子化合物,

請回答下列問題:

(1)反應⑤的條件是_______________;E的分子式為__________________

(2)C中含有的官能團的名稱是________________ ;

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【題目】下列反應既是化合反應,又是氧化還原反應的是

A. B.

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①則其化學式為________。

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