【題目】設(shè)NA為阿伏加德羅常數(shù)的值,下列說法確的是

A. 常溫下,22gCO2所含的共用電子對數(shù)目為NA

B. 標(biāo)準(zhǔn)狀況下,22.4LNO 11.2LO2混合后氣體中分子總數(shù)小于NA

C. 1 L 0.1mol/L FeCl3溶液滴入沸水中,制得的Fe(OH)3膠粒數(shù)目為0.1NA

D. 常溫下,1L0.5mol/L NH4Cl溶液與2L0.25mol/L NH4Cl溶液中的NH4+數(shù)目相同

【答案】B

【解析】A. CO2分子含有4個共價鍵即4對共用電子對,22g0.5molCO2所含的共用電子對數(shù)目為2NA,故A錯誤;B. 標(biāo)準(zhǔn)狀況下,22.4L1molNO11.2L0.5molO2混合后,2NO+O22NO2,2NO2N2O4,所得氣體中分子總數(shù)小于NA,故B正確;C. Fe(OH)3膠粒是許多Fe(OH)3分子的集合體,所以將1L0.1mol/LFeCl3溶液滴入沸水中,制得的Fe(OH)3膠粒數(shù)目小于0.1NA,故C錯誤;D. 稀釋有利于鹽類水解,常溫下,1L0.5mol/LNH4Cl溶液與2L0.25mol/LNH4Cl溶液中的NH4+的水解程度,前者小于后者,所以NH4+數(shù)目前者大于后者,故D錯誤。故選B。

練習(xí)冊系列答案
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

【題目】下列物質(zhì)不可用作食品添加劑的是(
A.谷氨酸單鈉
B.檸檬酸
C.山梨酸鉀
D.三聚氰胺

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

【題目】在鐵制品上鍍上一定厚度的鋅層,以下設(shè)計方案正確的是(
A.鋅作陽極,鍍件作陰極,溶液中含有鋅離子
B.鉑作陰極,鍍件作陽極,溶液中含有鋅離子
C.鐵作陽極,鍍件作陰極,溶液中含有亞鐵離子
D.鋅用陰極,鍍件作陽極,溶液中含有鋅離子

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

【題目】下列各種元素:硫,在自然界中無游離態(tài)的是

A. ①②④ B. ①②③ C. ①②③④ D. ①③⑤

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【題目】還原沉淀法是處理含鉻(含Cr2O72和CrO42)工業(yè)廢水的常用方法,過程如下:
CrO42 Cr2O72 Cr3+ Cr(OH)3
己知轉(zhuǎn)化過程中的反應(yīng)為:2CrO42(aq)+2H+(aq)═Cr2O72(aq)+H2O(1).轉(zhuǎn)化后所得溶液中鉻元素含量為28.6g/L,CrO42有10/11轉(zhuǎn)化為Cr2O72 . 下列說法不正確的是(
A.轉(zhuǎn)化過程中,增大c(H+),平衡向正反應(yīng)方向移動,CrO42的轉(zhuǎn)化率提高
B.常溫下Ksp[Cr(OH)3]=1×1032 , 要使處理后廢水中c(Cr3+)降至1×105mol/L,應(yīng)調(diào)溶液的pH=5
C.若用綠礬(FeSO47H2O)(M=278)作還原劑,處理1L廢水,至少需要917.4g
D.常溫下轉(zhuǎn)化反應(yīng)的平衡常數(shù)K=104 , 則轉(zhuǎn)化后所得溶液的pH=1

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

【題目】下列離子方程式正確的是 ( )

A. 氫氧化鋁與鹽酸反應(yīng):H+OH=H2O

B. 碳酸鈣與稀硝酸反應(yīng):CO32+2H=H2O+CO2

C. 鋅與稀硫酸反應(yīng):Zn+2H=Zn2+H2

D. 氯化鎂溶液與氫氧化鈉溶液反應(yīng):Mg2+OH=Mg(OH)2

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

【題目】反應(yīng)A (g)+B (s)C(g); ΔH<0,在其他條件不變時,改變其中一個條件,則生成C的速率(加快”、“ 減慢不變”)。

(1)升溫____________;

(2)加正催化劑______________;

(3)增大容器容積___________;

(4)加入C_________________

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

【題目】關(guān)于淀粉和纖維素關(guān)系的敘述中不正確的是

A.都是非還原糖B.都符合分子式(C6H10O5)n

C.互為同分異構(gòu)體D.都是天然高分子化合物

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

【題目】硅在地殼中的含量較高,硅及其化合物的開發(fā)由來已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用.回答下列問題:

1)陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統(tǒng)的無機非金屬材料,其中生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有____________________。

2)高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料.工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如圖:

鋅還原四氯化硅是一種有著良好應(yīng)用前景的制備硅的方法,該制備過程示意如下:

過程發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為______________________(SiO2+3CSiC+2CO↑為副反應(yīng))若產(chǎn)品中單質(zhì)硅與碳化硅的物質(zhì)的量之比為11,則參加反應(yīng)的CSiO2的質(zhì)量之比為________________

②整個制備過程必須嚴格控制無水。SiCl4遇水劇烈水解生成兩種酸,反應(yīng)的化學(xué)方程式是_________________________。

工業(yè)上也可以通過如下圖所示的流程制取純硅:

①有關(guān)物質(zhì)的沸點數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和_________;SiHCl3極易水解,其完全水解的化學(xué)方程式為___________________________。

物質(zhì)

Si

SiCl4

SiHCl3

SiH2Cl2

SiH3Cl

HCl

SiH4

沸點/℃

2355

57.6

31.8

8.2

﹣30.4

﹣84.9

﹣111.9

假設(shè)每一輪次制備1mol純硅,且生產(chǎn)過程中硅元素沒有損失,反應(yīng)IHCl的利用率為90%,反應(yīng)IIH2的利用率為93.75%,則在第二輪次的生產(chǎn)中,補充投入HCl H2的物質(zhì)的量之比是___________________。

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