Question

硅單質(zhì)及其化合物應(yīng)用范圍很廣。請(qǐng)回答下列問(wèn)題：

（1）制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過(guò)程示意圖如下：

①寫(xiě)出由純SiHCl₃制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式　　　　。

②整個(gè)制備過(guò)程必須嚴(yán)格控制無(wú)水無(wú)氧。SiHCl₃遇水劇烈反應(yīng)生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質(zhì)，寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式　　　　；H₂還原SiHCl₃過(guò)程中若混O₂，可能引起的后果是        。

（2）下列有關(guān)硅材料的說(shuō)法正確的是      （填字母）。

A．碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水混

B．氮化硅硬度大、熔點(diǎn)高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

C．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂的，其熔點(diǎn)很高

D．鹽酸可以與硅反應(yīng)，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

（3）硅酸鈉水溶液俗稱(chēng)水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋　　　　。

Answer 1

（1） ①寫(xiě)出由純SiHCl₃制備高純硅的化學(xué)反應(yīng)方程式:

SiHCl₃+H₂==（1357K）== Si+3HCl

②SiHCl₃遇水劇烈反應(yīng)生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質(zhì)，寫(xiě)出配平的化學(xué)反應(yīng)方程式3SiHCl₃+3H₂O===H₂SiO₃+H₂↑+3HCl; H₂還原SiHCl₃過(guò)程中若混入O₂，可能引起的后果是：高溫下，H₂遇O₂發(fā)生爆炸。

（2）ABCD

（3）寫(xiě)出實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象并給予解釋?zhuān)荷�成白色絮狀沉淀，又刺激性氣味的氣體生成；SiO₃^2-與NH₄⁺發(fā)生雙水解反應(yīng)，SiO₃^2- + 2 NH₄⁺ + 2H₂O === 2NH₃?H₂O + H₂SiO₃↓。