(16分)某校學生課外活動小組的同學設計下圖所示實驗裝置，用來驗證一氧化碳具有還原性．回答下列問題．

(1)寫出裝置A中所發(fā)生反應的離子方程式____________________________________．
(2) B中最適宜的試劑是__________________________________________________．
(3)若實驗中沒有裝置C，使裝置B與裝置D直接相連，會對實驗造成的影響是：________________________________________.
(4)裝置D中黑色固體為________(填名稱)，反應的化學方程式為________________．
(5)按照如圖裝置進行實驗時，首先進行的操作是_______________________．
(6)根據實驗中的______________________現象，可證明CO具有還原性，有關反應的化學方程式是____________________________________．
(7)若要根據裝置F中澄清石灰水變渾濁的現象確認一氧化碳具有還原性，應在上圖裝置________與________之間連接下圖中的________裝置(填序號)．

（16分）信息時代產生的大量電子垃圾對環(huán)境構成了極大的威脅。某“變廢為寶”學生探究小組將一批廢棄的線路板簡單處理后，得到含70%Cu、25%Al、4%Fe及少量Au、Pt等金屬的混合物，并設計出如下制備硫酸銅和硫酸鋁晶體的路線：

請回答下列問題：
（1）第①步Cu與酸反應的離子方程式為_______________________________；得到濾渣1的主要成分為___________________。
（2）第②步加H₂O₂的作用是________________，使用H₂O₂的優(yōu)點是            
                         ；調溶液pH的目的是使          生成沉淀。
（3）用第③步所得CuSO₄·5H₂O制備無水CuSO₄的方法是                    。
（4）由濾渣2制取Al₂(SO₄)₃·18H₂O ，探究小組設計了三種方案：

上述三種方案中，_______方案不可行，原因是_____________________________；從原子利用率角度考慮，________方案更合理。
（5）探究小組用滴定法測定CuSO₄·5H₂O （Mr＝250）含量。取a g試樣配成100 mL溶液，每次取20.00 mL，消除干擾離子后，用cmol·L^－1 EDTA（H₂Y^2－）標準溶液滴定至終點，平均消耗EDTA溶液bmL。滴定反應如下：Cu²⁺＋H₂Y^2－＝CuY^2－＋2H⁺
寫出計算CuSO₄·5H₂O質量分數的表達式w＝ ________________ ；下列操作會導致CuSO₄·5H₂O含量的測定結果偏高的是_____________。
a．未干燥錐形瓶   
b．滴定終點時滴定管尖嘴中產生氣泡   
c．未除凈可與EDTA反應的干擾離子

（18分）某興趣小組欲從工業(yè)食鹽中精煉精鹽，并配制NaCl溶液，請回答下列問題：
（1）粗鹽水加入沉淀劑A、B除雜質（沉淀劑A來源于石灰窯廠），寫出A、B的化學式。
A                           B                  
（2）實驗室提純粗鹽的實驗操作依次為：
取樣、       、沉淀、過濾、       、冷卻結晶、烘干。
（3）實驗室配制500 mL 0.1mol/L的NaCl溶液，具體操作步驟為：①在天平上稱取一定質量的NaCl，把它放在燒杯中，用適量的蒸餾水使其完全溶解；②把制得的溶液小心的注入500 mL的容量瓶中；③繼續(xù)向容量瓶中滴加蒸餾水至液面距刻度線1～2 cm處時，改用膠頭滴管小心滴加，直到溶液的凹液面恰好與刻度線相切為止；④用少量蒸餾水洗滌燒杯和玻璃棒2～3次，每次的洗滌液都轉入容量瓶中，并輕輕搖勻；⑤將容量瓶塞好，充分搖勻。試填寫下列空白。
①應該稱取的NaCl的質量為________，上述操作的正確順序是____________；
②本實驗用到的儀器除玻璃棒、托盤天平、藥匙、燒杯外還需要的有___________________、______________________，
③觀察容量瓶中的液面時，若俯視刻度線，會使所配的溶液的濃度________(填“偏高”“偏低”或“無影響”，下同)。沒有進行操作④，會________； 

(10分)晶體硅是一種重要的非金屬材料。請寫出晶體硅的二種用途：______、______
制備純硅的主要步驟如下：
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
②粗硅與干燥HCl氣體反應制得SiHCl₃(常溫下為液態(tài)，易揮發(fā))
③SiHCl₃與過量Ｈ₂在1000～1100℃反應制得純硅。
已知:Ⅰ.SiHCl₃水解會生成兩種氣態(tài)產物，請寫出其水解的化學方程式：___________。
Ⅱ.SiHCl₃在空氣中自燃。請回答下列問題：
（1）第①步制備粗硅的化學反應方程式為　　　　　　　　　　　　　　　　　。
（2）用SiHCl₃與過量Ｈ₂反應制備純硅的裝置如下（熱源及夾持裝置略去）

①裝置Ｂ中的試劑是　　　　，裝置Ｃ中的燒瓶需要加熱，其目的是______________，
②反應一段時間后，裝置Ｄ中觀察到的現象是　　　　　　　　　　　　　　　_　　，
裝置Ｄ中發(fā)生反應的化學方程式為　　　　　　　　　　　　　　　　　　___　　，
③為保證制備純硅實驗的成功，操作的關鍵是檢查實驗裝置的氣密性，控制好反應溫度
以及　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　_____________　，
④設計鑒定產品硅中是否含少量Fe單質的方法:_________________________________。

下列物質的制備操作，可以達到實驗目的是（   ）

A．向氯化鐵溶液中不斷加入氫氧化鈉溶液制備氫氧化鐵膠體

B．用銅粉和硫粉混合加熱制備硫化銅

C．用鐵做陽極電解硫酸鈉溶液可以制得氫氧化亞鐵

D．向鋁鹽溶液中不斷滴入過量燒堿溶液制備Al(OH)3

已知NH₃難溶于CCl₄，如下圖所示，下列裝置中，不宜用于吸收氨氣的是 (   )

下列裝置中，可用于實驗室制取氨氣的是
        
A            B                C            D

(7分)某同學為了驗證氫氣還原氧化銅的反應產物，設計了如下圖所示的實驗裝置。

(1)寫出編號儀器的名稱：
①________，②________。
(2)濃硫酸的作用是_________________________________________________。
(3)本實驗需要加熱的裝置為________(填字母編號)。
(4)寫出裝置C、D中可觀察到的現象：C________，D________。
(5)D中反應每生成1個水分子，轉移的電子數為________。

（14分）根據下列裝置圖回答問題(裝置圖用符號表示)：

(1)雙氧水(H₂O₂)是無色液體，可發(fā)生如下化學反應：。反應中MnO₂的作用是________。在實驗室利用此反應制取氧氣時，應選用的氣體發(fā)生裝置是________，簡述檢查本裝置氣密性的方法：______________________________________________。
(2)KClO₃在MnO₂作催化劑時，加熱也可以制得氧氣。應選用的氣體發(fā)生裝置是________。
(3)為了驗證MnO₂在KClO₃分解過程中起到了催化劑作用，我們要把反應后的產物分離，提取出MnO₂并驗證其的確是催化劑。分離出MnO₂的操作有________、________、洗滌、烘干、稱量。為證明MnO₂是催化劑，還需要知道的一個數據是____________________。

（16分）過氧化氫（H₂O₂）有廣泛的用途。工業(yè)上用電解硫酸氫銨水溶液的方法制備過氧化氫，其反應原理是：2NH₄HSO₄(NH₄)₂S₂O₈+H₂↑，      
(NH₄)₂S₂O₈+2H₂O==2NH₄HSO₄ + H₂O₂。其流程如下：

回答下列問題：
（1）根據以上反應原理可知，電解硫酸氫銨溶液時，陰極的電極反應方程式是：
                                            。
（2）在上流程圖中，采用減壓蒸餾的原因是：                         。
可循環(huán)利用的物質是            。
（3）過氧化氫具有的化學性質是              。

A．不穩(wěn)定性

B．弱堿性

C．氧化性

D．還原性

（4）硫酸銅溶液中混有少量硫酸亞鐵。在除去雜質的過程中，使用過氧化氫時反應的離子方程式是_________________________________________________。
（5）在硫酸的存在下，用過氧化氫與乙酸作用制備過氧乙酸（CH₃COOOH）的化學方程式是：_______________________________________________________。