下列對實驗現(xiàn)象的預測不正確的是

A．向Ca(OH)2溶液中通入CO2，溶液變渾濁，繼續(xù)通入CO2至過量，渾濁消失，再加入過量NaOH溶液，溶液又變渾濁

B．向Na2CO3飽和溶液中通入CO2，溶液變渾濁，繼續(xù)通入CO2，有晶體析出

C．向Ca(ClO)2溶液中通入CO2，溶液變渾濁，再加入品紅溶液，紅色褪去

D．向Na2SiO3溶液中通入CO2，溶液變渾濁，繼續(xù)通入CO2至過量，渾濁消失

下列各組離子在指定溶液中能大量共存的是

A．無色溶液中：K+、Na+、MnO4－、SO42－

B．由水電離出的c(OH－)=1.0×10－13mol·L－1的溶液中：Na+、Ba2+、Cl－、Br－

C．有較多Fe3+的溶液中：Na+、NH4+、HCO3－、SO42－

D．強酸性溶液中：K+、NH4+、I－、NO3－

將含有0.1mol SiO2的鋁、硅混合物分別與足量NaOH溶液、鹽酸混合，充分反應后前者可得到11.2L氣體（標準狀況），后者可得到6.72L氣體（標準狀況），則參加反應的n(HCl)與n(NaOH)之比為

A．1:1 B．1:2 C．2:1 D．3:1

氯氣用途十分廣泛，可用于生產半導體材料硅，其生產的流程如下，下列說法不正確的是

A．①③是置換反應，②是化合反應

B．高溫下，焦炭與氫氣的還原性均強于硅的

C．任一反應中，每消耗或生成28 g硅，均轉移4 mol電子

D．高溫下將石英砂、焦炭、氯氣、氫氣按一定比例混合可得高純硅

某溶液中含有Na+、CO32－、HCO3－、SO32－、Cl－，在加入Na2O2后濃度不發(fā)生變化的是

A．Na+、CO32－ B．Cl－ C．CO32－、Cl－ D．HCO3－、SO32－

下列解釋實驗過程或事實的反應方程式不正確的是

A. 熔融燒堿時，不能使用氧化鋁坩堝：Al2O3+2NaOH =2NaAlO2+H2O

B. 刻制印刷電路時用FeCl3溶液作為“腐蝕液”：2Fe3++Cu=Cu2++2Fe2+

C. 打磨后的鎂條置于沸水中，滴加酚酞溶液變紅色：Mg+2H2O(g)Mg(OH)2+H2↑

D. 向KI溶液中滴加硫酸酸化的雙氧水，溶液呈棕黃色：2I－+H2O2+2H+=I2+O2↑+2H2O

在200ml含Mg2+、Al3+、NH4+、H+、Cl－的溶液中，逐滴加入5mol/L的NaOH溶液，所加NaOH溶液的體積（mL）與產生沉淀的物質的量（mol）關系如圖所示。下列敘述不正確的是

A．x－y=0.01mol B．原溶液中c(Cl－)=0.75mol·L－1

C．原溶液的pH=1 D．原溶液中n(Mg2+)：n(Al3+)=5:1

有關純堿和小蘇打的敘述正確的是

A．等質量的Na2CO3和NaHCO3分別與足量的稀鹽酸反應，NaHCO3產生的CO2多

B．等質量的Na2CO3和NaHCO3分別與足量的同種鹽酸反應，NaHCO3消耗的鹽酸多

C．向NaHCO3溶液中滴入Ba(OH)2溶液無沉淀，而Na2CO3溶液中加入Ba(OH)2溶液出現(xiàn)白色沉淀

D．Na2CO3和NaHCO3都既能與酸反應，又能與氫氧化鈉反應

濃鹽酸中H3AsO3與SnCl2反應的離子方程式為： 3Sn2＋＋2H3AsO3＋6H＋＋18Cl－＝2As＋3SnCl62－＋6M 關于該反應的說法中正確的組合是

① 氧化劑是H3AsO3；② 還原性：Cl－＞As；

③ 每生成1molAs，反應中轉移電子的物質的量為3mol；

④ M為OH－；⑤ SnCl62－是氧化產物。

A．①②④⑤ B．①②③④ C．①③⑤ D．只有①③

標準狀況下，將體積為VL的圓底燒瓶中充滿氨氣，倒扣在含有足量水的水槽中（如圖所示），實驗完畢后立即將燒瓶從水槽中取出（無NH3·H2O、NH4+、NH3）擴散到水槽中），所得溶液的密度為ρg•cm-3。下列說法正確的是

A．條件不足，不能計算所得溶液的物質的量濃度

B．所得溶液中，n(NH3•H2O)+n(NH4+)+n(NH3)=V /22.4

C．所得溶液的質量分數為17ρ/ 22400

D．水最終不可能充滿整個燒瓶