7．工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下: SiCl4(g)+2H2,ΔH＝+Q kJ/mol(Q＞0) 某溫度.壓強(qiáng)下.將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng).下列敘述正確的是( ) A．反應(yīng)過(guò)程中.若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率 B．若反應(yīng)開(kāi)始時(shí)SiCl4為1 mol.則達(dá)到平衡時(shí).吸收熱量為Q kJ C．反應(yīng)至4 min時(shí).若HCl濃度為0.12 mol/L.則H2的反應(yīng)速率為0.03 mol/ D．當(dāng)反應(yīng)吸收熱量為0.025 Q kJ時(shí).生成的HCl通入100 mL 1 mol/L的NaOH溶液中恰好反應(yīng) 解析:因反應(yīng)是氣體體積增大的反應(yīng).所以加壓會(huì)減小SiCl4的轉(zhuǎn)化率.A錯(cuò),因反應(yīng)為可逆反應(yīng).SiCl4不可能反應(yīng)1 mol.故達(dá)平衡時(shí)吸收熱量應(yīng)小于Q kJ.B錯(cuò),列式計(jì)算v(HCl)＝＝0.03 mol/.v(H2)＝v(HCl)＝0.015 mol/.C錯(cuò)誤,據(jù)熱化學(xué)方程式比例關(guān)系計(jì)算.吸收0.025Q kJ能量.則有0.1 mol HCl生成.可中和0.1 mol NaOH.D正確. 答案:D 【查看更多】

 

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（2010?南開(kāi)區(qū)二模）工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：
SiCl4（g）+2H2（g）?Si（s）+4HCl（g）；△H=+Q kJ?mol-1（Q＞0）
某溫度、壓強(qiáng)下，將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)（此條件下為可逆反應(yīng)），下列敘述正確的是（　�。�

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工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：SiCl4（g）+2H2（g）?Si（g）+4HCl（g）；△H=+Q kJ?mol-1（Q＞0），某溫度、壓強(qiáng)下，將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)，下列敘述正確的是（　�。�

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（2008?北京）工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：SiCl4（g）+2H2（g）=Si（s）+4HCl（g）；△H=+QkJ/mol（Q＞0）某溫度、壓強(qiáng)下，將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)（此條件下為可逆反應(yīng)），下列敘述正確的是（　�。�

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工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式：SiCl4（g）+2H2（g）?Si（s）+4HCl（g）△H=+QkJ/mol（Q＞0），一定溫度、壓強(qiáng)下，將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器中進(jìn)行以上反應(yīng)，下列敘述正確的是（　�。�

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工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下：
SiCl4（g）+2H2（g）?Si（s）+4HCl（g）；△H=+QKJ/mol（Q＞0），某溫度、壓強(qiáng)下，將一定量反應(yīng)物通入密閉容器進(jìn)行以上反應(yīng)，下列敘述正確的是（　　）

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