鋁.氧化鋁.氫氧化鋁.弱酸的酸式鹽.弱酸的銨鹽.氨基酸和蛋白質(zhì) 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領域有重要用途。

1AlNaOH溶液反應的離子方程式為???????????????????????????????????? 。

2)下列實驗能比較鎂和鋁的金屬性強弱的是???? ??? ?? (填序號)。

a.測定鎂和鋁的導電性強弱

b.測定等物質(zhì)的量濃度的Al2(SO4)3MgSO4溶液的pH

c.向0.1 mol/LAlCl30.1 mol/L MgCl2中加過量NaOH溶液

3)鋁熱法是常用的金屬冶煉方法之一。

已知4Al (s)+3O2(g) =2Al2O3(s)??? ΔH1 = -3352 kJ/mol

Mn(s)+ O2(g) =MnO2 (s)???? ΔH2 = -521 kJ/mol

AlMnO2反應冶煉金屬Mn的熱化學方程式是?????????????????????? ????? 。

4)氮化硅抗腐蝕能力很強,但易被氫氟酸腐蝕,氮化硅與氫氟酸反應生成四氟化硅和一種銨鹽,其反應方程式為??????????????????? ????????? ???????????? 。

5)工業(yè)上用化學氣相沉積法制備氮化硅,其反應如下:3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g) Si3N4(s) + 12HCl(g)?? H0??

某溫度和壓強條件下,分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密閉容器內(nèi),進行上述反應5min達到平衡狀態(tài),所得Si3N4(s)的質(zhì)量是5.60g。

H2的平均反應速率是???????? mol(L·min)。

若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) = 3 : 2 : 6的投料配比,向上述容器不斷擴大加料,SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率應????? (填增大減小不變)。

6298K,Ksp[Ce(OH)4]1×10—29Ce(OH)4的溶度積表達式為Ksp??????????????

為了使溶液中Ce4沉淀完全,即殘留在溶液中的c(Ce4+)小于1×105mol·L1,需調(diào)節(jié)pH????? 以上。

 

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氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領域有重要用途。
(1)Al與NaOH溶液反應的離子方程式為                                    。
(2)下列實驗能比較鎂和鋁的金屬性強弱的是           (填序號)。
a.測定鎂和鋁的導電性強弱
b.測定等物質(zhì)的量濃度的Al2(SO4)3和MgSO4溶液的pH
c.向0.1 mol/LAlCl3和0.1 mol/L MgCl2中加過量NaOH溶液
(3)鋁熱法是常用的金屬冶煉方法之一。
已知:4Al (s)+3O2(g) =2Al2O3(s)   ΔH1 =" -3352" kJ/mol
Mn(s)+ O2(g) =MnO2 (s)    ΔH2 =" -521" kJ/mol
Al與MnO2反應冶煉金屬Mn的熱化學方程式是                            
(4)氮化硅抗腐蝕能力很強,但易被氫氟酸腐蝕,氮化硅與氫氟酸反應生成四氟化硅和一種銨鹽,其反應方程式為                                          
(5)工業(yè)上用化學氣相沉積法制備氮化硅,其反應如下:3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g)Si3N4(s) + 12HCl(g)  △H<0  
某溫度和壓強條件下,分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密閉容器內(nèi),進行上述反應,5min達到平衡狀態(tài),所得Si3N4(s)的質(zhì)量是5.60g。
①H2的平均反應速率是         mol/(L·min)。
②若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) =" 3" : 2 : 6的投料配比,向上述容器不斷擴大加料,SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率應     (填“增大”、“減小”或“不變”)。
(6)298K時,Ksp[Ce(OH)4]=1×10—29。Ce(OH)4的溶度積表達式為Ksp              。
為了使溶液中Ce4沉淀完全,即殘留在溶液中的c(Ce4+)小于1×10-5mol·L-1,需調(diào)節(jié)pH為     以上。

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氧化鋁(Al2O3) 和氮化硅(Si3N4)是優(yōu)良的高溫結(jié)構(gòu)陶瓷,在工業(yè)生產(chǎn)和科技領域有重要用途。
(1)Al與NaOH溶液反應的離子方程式為                                    。
(2)下列實驗能比較鎂和鋁的金屬性強弱的是           (填序號)。
a.測定鎂和鋁的導電性強弱
b.測定等物質(zhì)的量濃度的Al2(SO4)3和MgSO4溶液的pH
c.向0.1 mol/LAlCl3和0.1 mol/L MgCl2中加過量NaOH溶液
(3)鋁熱法是常用的金屬冶煉方法之一。
已知:4Al (s)+3O2(g) =2Al2O3(s)   ΔH1 =" -3352" kJ/mol
Mn(s)+ O2(g) =MnO2 (s)    ΔH2 =" -521" kJ/mol
Al與MnO2反應冶煉金屬Mn的熱化學方程式是                            
(4)氮化硅抗腐蝕能力很強,但易被氫氟酸腐蝕,氮化硅與氫氟酸反應生成四氟化硅和一種銨鹽,其反應方程式為                                          
(5)工業(yè)上用化學氣相沉積法制備氮化硅,其反應如下:3SiCl4(g) + 2N2(g) + 6H2(g)Si3N4(s) + 12HCl(g)  △H<0  
某溫度和壓強條件下,分別將0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2L密閉容器內(nèi),進行上述反應,5min達到平衡狀態(tài),所得Si3N4(s)的質(zhì)量是5.60g。
①H2的平均反應速率是         mol/(L·min)。
②若按n(SiCl4) : n(N2) : n(H2) =" 3" : 2 : 6的投料配比,向上述容器不斷擴大加料,SiCl4(g)的轉(zhuǎn)化率應     (填“增大”、“減小”或“不變”)。
(6)298K時,Ksp[Ce(OH)4]=1×10—29。Ce(OH)4的溶度積表達式為Ksp              
為了使溶液中Ce4沉淀完全,即殘留在溶液中的c(Ce4+)小于1×10-5mol·L-1,需調(diào)節(jié)pH為     以上。

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食鹽、蔗糖、醋酸、純堿、汽油、明礬等是常見的物質(zhì),下列有關(guān)說法或表示正確的是( 。

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食鹽、蔗糖、醋酸、純堿、汽油、明礬等是常見的物質(zhì),下列有關(guān)說法或表示正確的是( 。
A.食鹽溶于水形成的分散系,能產(chǎn)生丁達爾效應
B.蔗糖與醋酸都是弱電解質(zhì)
C.純堿是堿
D.1L 2mol?L-1明礬經(jīng)水解可得到氫氧化鋁膠體,該膠體中膠粒數(shù)目小于2NA

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