真空中的光滑水平絕緣面上有一帶電小滑塊.開始時滑塊靜止.若在滑塊所在空間加一水平勻強(qiáng)電場E1,持續(xù)一段時間后立刻換成與E1相反方向的勻強(qiáng)電場E2.當(dāng)電場E2與電場E1持續(xù)時間相同時.滑塊恰好回到初始位置.且具有動能EK.在上述過程中.E1對滑塊的電場力做功為W1.沖量大小為I1,E2對滑塊的電場力做功為W2.沖量大小為I2.則 A.I1=I2 B.4I1=I2 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

真空中的光滑水平絕緣面上有一帶電小滑塊,開始時滑塊靜止。若在滑塊所在空間加一水平勻強(qiáng)電場E1,持續(xù)一段時間后立刻換成與E1相反方向的勻強(qiáng)電場E2。當(dāng)電場E2與電場E1持續(xù)時間相同時,滑塊恰好回到初始位置,且具有動能EK。在上述過程中,E1對滑塊的電場力做功為W1,沖量大小為I1;E2對滑塊的電場力做功為W2,沖量大小為I2。則      (   )
    A.I1=I2                                  B.4I1=I2
C.W1=0.25Ek,W2=0.75 Ek                   D.W1=0.20EkW2=0.80 Ek

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真空中的光滑水平絕緣面上有一帶電小滑塊,開始時滑塊靜止。若在滑塊所在空間加一水平勻強(qiáng)電場E1,持續(xù)一段時間后立刻換成與E1相反方向的勻強(qiáng)電場E2。當(dāng)電場E2與電場E1持續(xù)時間相同時,滑塊恰好回到初始位置,且具有動能EK。在上述過程中,E1對滑塊的電場力做功為W1,沖量大小為I1E2對滑塊的電場力做功為W2,沖量大小為I2。則      (   )

A.I1=I2                                  B.4I1=I2

C.W1=0.25EkW2=0.75 Ek                   D.W1=0.20Ek,W2=0.80 Ek

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真空中的光滑水平絕緣面上有一帶電小滑塊,開始時滑塊靜止。若在滑塊所在空間加一水平勻強(qiáng)電場E1,持續(xù)一段時間后立刻換成與E1相反方向的勻強(qiáng)電場E2。當(dāng)電場E2與電場E1持續(xù)時間相同時,滑塊恰好回到初始位置,且具有動能EK。在上述過程中,E1對滑塊的電場力做功為W1,沖量大小為I1;E2對滑塊的電場力做功為W2,沖量大小為I2。則     (  )
A.I1=I2B.4I1=I2
C.W1=0.25EkW2="0.75" EkD.W1=0.20Ek,W2="0.80" Ek

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真空中的光滑水平絕緣面上有一帶電小滑塊,開始時滑塊靜止。若在滑塊所在空間加一水平勻強(qiáng)電場E1,持續(xù)一段時間后立刻換成與E1相反方向的勻強(qiáng)電場E2。當(dāng)電場E2與電場E1持續(xù)時間相同時,滑塊恰好回到初始位置,且具有動能EK。在上述過程中,E1對滑塊的電場力做功為W1,沖量大小為I1;E2對滑塊的電場力做功為W2,沖量大小為I2。則


  1. A.
    I1=I2
  2. B.
    4I1=I2
  3. C.
    W1=0.25Ek,W2="0.75" Ek
  4. D.
    W1=0.20Ek,W2="0.80" Ek

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在真空中的光滑水平絕緣面上有一帶電小滑塊,開始時滑塊處于靜止?fàn)顟B(tài).若在滑塊所在空間加一水平勻強(qiáng)電場E1,持續(xù)一段時間后立即換成與E1相反方向的勻強(qiáng)電場E2.當(dāng)電場E2與電場E1持續(xù)時間相同時,滑塊恰好回到初始位置,且具有動能EK.在上述過程中,E1對滑塊的電場力做功為W1,沖量大小為I1;E2對滑塊的電場力做功為W2,沖量大小為I2.則(  )

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