(本題14分)

氯化鐵和高鐵酸鉀都是常見的水處理劑。下圖為制備氯化鐵及進一步氧化制備高鐵酸鉀的工藝流程。

請回答下列問題:

(1).氯化鐵有多種用途,請用離子方程式表示下列用途的原理。

①氯化鐵做凈水劑______________________;

②用FeCl3溶液(32%~35%)腐蝕銅印刷線路板____________________________。

(2).吸收劑X的化學式為 ;氧化劑Y的化學式為________________。

(3).堿性條件下反應①的離子方程式為____________________________________。

(4).過程②將混合溶液攪拌半小時,靜置,抽濾獲得粗產品。該反應的化學方程式為

2KOH+Na2FeO4→K2FeO4+2NaOH,請根據(jù)復分解反應原理分析反應發(fā)生的原因_________。

(5).K2FeO4 在水溶液中易發(fā)生反應:4FeO42+10H2O4Fe(OH)3+8OH+3O2↑。在提純K2FeO4時采用重結晶、洗滌、低溫烘干的方法,則洗滌劑最好選用 (填序號)。

A.H2O B.稀KOH溶液、異丙醇

C.NH4Cl溶液、異丙醇 D.Fe(NO3)3溶液、異丙醇

(6).可用滴定分析法測定粗K2FeO4的純度,有關反應離子方程式為:

①FeO42-+CrO2-+2H2O→CrO42-+Fe(OH)3↓+OH-

②2CrO42-+2H+→Cr2O72-+H2O

③Cr2O72- +6Fe2++14H+→2Cr3++6Fe3++7H2O

現(xiàn)稱取1.980 g粗高鐵酸鉀樣品溶于適量氫氧化鉀溶液中,加入稍過量的KCrO2,充分反應后過濾,濾液定容于250 mL容量瓶中。每次取25.00 mL加入稀硫酸酸化,用0.1000 mol/L的(NH4)2Fe(SO4)2標準溶液滴定,三次滴定消耗標準溶液的平均體積為18.93 mL。則上述樣品中高鐵酸鉀的質量分數(shù)為 。(答案用小數(shù)表示,保留3位小數(shù))

練習冊系列答案
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液氨是一種良好的儲氫物質。

已知:①2NH3(g) N2 (g)+3H2(g) ΔH = +92.4 kJ·mol-1

②液氨中2NH3(l) NH2- +NH4+

(1)氨氣自發(fā)分解的反應條件是 (填“低溫”或“高溫”)。

(2)圖1為某溫度下等質量的不同金屬分別催化等濃度氨氣分解生成氫氣的初始速率。反應的活化能最大的是 (填催化劑的化學式)。

(3)其他條件相同,反應①在不同催化劑作用下反應相同時間后,氨氣的轉化率隨反應溫度的變化如圖2所示。

①a點所代表的狀態(tài)________(填“是”或“不是”)平衡狀態(tài)。

②c點氨氣的轉化率高于b點,原因是 。

③請在圖2中再添加一條Ni催化分解氨氣過程的總趨勢曲線。

④假設Ru催化下,溫度為750 ℃時,氨氣的初始濃度為c0,平衡轉化率為40%,則該溫度下此反應的平衡常數(shù)K = 。

(4)用Pt電極對液氨進行電解也可產生H2和N2。陰極的電極反應式是 。

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下列解釋事實的方程式正確的是

A.利用鋁熱反應焊接鋼軌: 2Al + Fe2O3 2Fe + Al2O3

B.用氯水除去FeCl3溶液中的Fe2+: Cl2 + Fe2+ === 2Cl- + Fe3+

C.用已知濃度的NaOH溶液測定未知濃度的醋酸溶液的濃度:H+ + OH- === H2O

D.盛放NaOH溶液的試劑瓶不能用玻璃塞:SiO2 + 2Na+ + 2OH- === Na2SiO3 + H2O

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(14分)高純硅晶體是信息技術的重要材料。

(1)在周期表的以下區(qū)域中可以找到類似硅的半導體材料的是______(填字母)。

A.過渡元素區(qū)域 B.金屬和非金屬元素的分界線附近

(2)工業(yè)上用石英和焦炭可以制得粗硅。已知:

寫出用石英和焦炭制取粗硅的熱化學方程式 ______。

(3)某同學設計下列流程制備高純硅:

①Y的化學式為______。

②寫出反應Ⅰ的離子方程式 。

③寫出反應Ⅳ的化學方程式 。

④步驟Ⅵ中硅烷(SiH4)分解生成高純硅,已知甲烷分解的溫度遠遠高于硅烷,用原子結構解釋其原因是 。

(4)將粗硅轉化成三氯硅烷(SiHCl3),進一步反應也可以制得粗硅。其反應:

SiHCl3 (g) + H2(g) Si(s) + 3HCl(g),不同溫度下,SiHCl3的平衡轉化率隨反應物的投料比(反應初始時各反應物的物質的量之比)的變化關系如圖所示。下列說法正確的是 (填字母)。

A.該反應是放熱反應

B.橫坐標表示的投料比應該是

C.該反應的平衡常數(shù)隨溫度升高而增大

D.實際生產中為提高SiHCl3的利用率,可以適當增大壓強

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下列離子方程式正確的是

A.氯化鎂溶液與氨水反應:Mg2++ 2OH-=Mg(OH)2↓

B.Na2O2與H2O反應制備O2:Na2O2+ H2O =2Na++ 2OH-+O2↑

C.向明礬溶液中加過量氫氧化鈉溶液:Al3++4OH-=AlO2-+2H2O

D.向稀硝酸中加入少量鐵粉:3Fe+ 8H++ 2NO3-=3Fe2++ 2NO↑+ 4H2O

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A.Q<0,a+b>c B.Q<0,a+b<c

C.Q>0,a+b>c D.Q>0,a+b<c

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①混合氣體的平均組成為(用CxHy的形式表示)___________;

②若上述兩種氣體按體積1:1混合時,則兩種氣態(tài)烴的可能組成為__________________。

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②寫出與X具有相同官能團的X的所有同分異構體的結構簡式:______________。

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下列說法中正確的是

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B.P4和CH4都是正四面體形分子且鍵角都為109°28′

C.NH4+的電子式為,離子呈平面正方形結構

D.NH3分子中有一對未成鍵的孤電子對,它對成鍵電子的排斥作用較強

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