16．玻璃的主要成分是二氧化硅，能在玻璃上進行雕刻的物質(zhì)是（　�。�
A．純堿B．鹽酸C．氫氟酸D．硫酸

分析 二氧化硅性質(zhì)較為穩(wěn)定，與硝酸、硫酸、鹽酸以及強氧化性物質(zhì)不反應，在一定條件下可與堿、堿性氧化物、鹽以及HF酸反應．

解答 解：A．純堿與二氧化硅在高溫下反應，不能用于在玻璃上進行刻蝕，故A錯誤；
B．鹽酸和二氧化硅不反應，不能用于在玻璃上進行刻蝕，故B錯誤；
C．氫氟酸與二氧化硅易反應，生產(chǎn)四氟化硅氣體，能在玻璃上進行刻蝕，故C正確；
D．硫酸和二氧化硅不反應，不能用于在玻璃上進行刻蝕，故D錯誤．
故選C．

點評 本題考查二氧化硅的性質(zhì)，題目難度不大，以識記為主，旨在考查學生對教材中基礎知識的積累．

練習冊系列答案
相關習題

科目：高中化學 來源： 題型：解答題

13．噴泉是一種常見的自然現(xiàn)象，其產(chǎn)生原因通常是裝置內(nèi)外存在壓強差．
（1）圖a所示為化學教學中所用的噴泉實驗裝置，在燒瓶中充滿干燥氣體，膠頭滴管及燒杯中分別盛有液體．下列組合中不可能形成噴泉的是B
A．HCl和H2O    B．O2和H2O
C．NH3和H2O    D．CO2和NaOH溶液
（2）某學生積極思考產(chǎn)生噴泉的其他辦法，并設計了如圖b所示裝置．
①在圖b錐形瓶中分別加入足量下列物質(zhì)，反應后可能產(chǎn)生噴泉的是D
A．Cu與稀鹽酸
B．NaHCO3與NaOH溶液
C．CaCO3與稀硫酸
D．NH4HCO3與稀鹽酸
②在錐形瓶外放一水槽，瓶中加入酒精，水槽中加入冷水后，再加入足量的下列物質(zhì)，結(jié)果也產(chǎn)生了噴泉，水槽中加入的物質(zhì)可以是A
A．濃硫酸B．食鹽C．硝酸鉀D．硫酸銅
這種方法產(chǎn)生噴泉的原理是濃H2SO4溶于水放熱，溫度升高，酒精加快揮發(fā)，錐形瓶內(nèi)氣壓增大．
③比較圖a和圖b兩套裝置，從產(chǎn)生噴泉的原理來分析，圖a是減�。ㄌ睢霸龃蟆被颉皽p小”，下同）上部燒瓶內(nèi)的氣體壓強；圖b是增大下部錐形瓶內(nèi)的氣體壓強．

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科目：高中化學 來源： 題型：解答題

7．孔雀石的主要成分是CuCO3•Cu（OH）2，還含有少量的SiO2和鐵的化合物．實驗室以孔雀石為原料制備CuSO4•5H2O的步驟如下：

請回答下列問題：
（1）溶液B中的金屬離子有Cu2+、Fe2+、Fe3+．若要檢驗溶液B中Fe3+，最適宜選用的試劑為d若要檢驗溶液B中Fe2+，最適宜選用的試劑為a（填字母）．
a．KMnO4溶液　　　b．鐵粉　　　c．NaCl溶液　　　d．KSCN溶液
（2）向溶液B中加入H2O2溶液的目的是將溶液中的Fe2+氧化為Fe3+，寫出該反應的離子方程式：H2O2+2Fe2++2H+=2Fe3++2H20；實驗室選用H2O2而不用Cl2作氧化劑，除考慮環(huán)保因素外，另一原因是不會引入新的雜質(zhì)離子．
（3）由溶液D獲得CuSO4•5H2O，需要經(jīng)過加熱蒸發(fā)，冷卻結(jié)晶，過濾等操作．除燒杯、漏斗外，過濾操作還用到了另一玻璃儀器，該儀器在此操作中的主要作用是引流．

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科目：高中化學 來源： 題型：解答題

4．根據(jù)題目要求填空：
（1）硫、氮的氧化物是主要的大氣污染物，對大氣的影響之一是導致酸雨．用化學方程式表示NO2形成酸雨的原因：3NO2+H2O=2HNO3+NO，該反應中氧化劑和還原劑的物質(zhì)的量之比為1：2．
（2）實驗室常用的幾種氣體發(fā)生裝置如圖1A、B、C所示：


?實驗室可以用B或C裝置制取氨氣，如果用B裝置，反應的化學方程式是?2NH4Cl+Ca（OH）2$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$CaCl2+2NH3↑+2H2O；如果用C裝置，通常使用的藥品是濃氨水和氧化鈣（或堿石灰、固體氫氧化鈉等）（寫名稱）；?圖2是某學生設計收集氨氣的幾種裝置，其中可行的是Ⅳ．?若用A裝置與D裝置相連制取并收集X氣體，則X可能是下列氣體中的C
A．CO2　   B．NO　   C．Cl2　    D．H2
寫出A裝置中反應的離子方程式MnO2+4H++2Cl-═Mn2++Cl2↑+2H．
（3）氫化鈉（NaH）是一種還原性極強的物質(zhì)，廣泛應用于工業(yè)生產(chǎn)．
?氫化鈉（NaH）中Na元素的化合價為+1，在高溫下氫化鈉（NaH）可將四氯化鈦（TiCl4）還原成金屬鈦，該反應的化學方程式為?TiCl4+4NaH $\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$4NaCl+Ti+2H2↑．
?NaH能與水劇烈反應：NaH+H2O═NaOH+H2↑，NaH與液氨（NH3）也有類似反應，該反應的化學方程式為?NaH+NH3═NaNH2+H2↑．如果有12g NaH參加此反應，則轉(zhuǎn)移電子的物質(zhì)的量為0.5mol

（4）用SiHCl3與過量H2反應制備純硅的裝置如圖3所示（熱源及夾持裝置均已略去）：
SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學反應方程式：SiHCl3+3H2O═H2SiO3↓+3HCl+H2↑；H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是高溫下H2與O2混合發(fā)生爆炸．

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

11．下列有關化學反應表達正確的是（　�。�
A．實驗室用液溴和苯在催化劑作用下制溴苯：+Br2$\stackrel{FeBr_{3}}{→}$+HBr
B．蛋殼溶于食醋：CaCO3+CH3COOH=CH3COOCa+H2O+CO2↑
C．向CH2BrCOOH中加入足量的氫氧化鈉溶液并加熱：CH2BrCOOH+OH-$\stackrel{△}{→}$CH2BrCOO-+H2O
D．向氯乙烷水溶液中加入氫氧化鈉溶液共熱：CH3CH2Cl+NaOH$\stackrel{△}{→}$CH2=CH2+NaCl+H2O

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

1．下列操作能達到實驗目的且符合實驗室安全措施的是（　�。�
A．稀釋濃硫酸，應將水慢慢注入盛有濃硫酸的燒杯中并攪拌
B．酒精燈灑出的酒精萬一在桌上著火，應立即用濕抹布撲蓋
C．堿溶液沾到皮膚上，應盡快用抹布擦拭干凈，再涂上稀鹽酸
D．氫氣還原氧化銅實驗結(jié)束時，為節(jié)約氫氣，應先停止氫氣再停止加熱

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

8．在固態(tài)金屬氧化物電解池中，高溫共電解H20-CO2濕合氣體制備H2和CO是一種新的能源利用方式，基本原理如圖所示．下列說法不正確的是（　�。�
A．X是電源的負極
B．陰極的反應式是：H2O+2eˉ═H2+O2-
C．總反應可表示為：H2O+CO2═H2+CO+O2
D．陰、陽兩極生成的氣體的物質(zhì)的量之比是1：2

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

5．下列溶液中，C（OH-）最小的是（　　）
A．向0.1mol•L-1的氨水中加入同體積的水
B．向0.1mol•L-1的KOH溶液中加入同體積的水
C．向0.2mol•L-1的氨水中加入同體積的0.1mol•L-1鹽酸
D．向0.2mol•L-1的KOH溶液中加入同體積的0.1mol•L-1鹽酸

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

6．下列有關物質(zhì)性質(zhì)或應用的說法正確的是（　�。�
A．醫(yī)療上，常用碳酸鈉治療胃酸過多
B．在海輪外殼上安裝鋅塊以減緩船體腐蝕
C．液氨汽化放出大量的熱，可用作制冷劑
D．明礬具有強氧化性，常用于自來水的殺菌消毒

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