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A. | 固體Cu(OH)2和H2SO4溶液反應 | B. | 澄清石灰水和HNO3 溶液反應 | ||
C. | KOH 溶液和醋酸溶液反應 | D. | Ba(OH)2溶液和H2SO4溶液反應 |
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A. | HClO4和 H2SO4 | B. | CH3COOH和H2Se | C. | C2H5OH和NaOH | D. | H2O2和HNO3 |
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A. | CS2為V形分子 | B. | NCl3的空間構(gòu)型為平面三角形 | ||
C. | SF6中有4對完全相同的成鍵電子對 | D. | SiF4和H2O的中心原子均為sp3雜化 |
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A. | 馬口鐵(錫鐵)鍍層破損后被腐蝕時,首先是鍍層被氧化 | |
B. | 原電池反應是導致金屬腐蝕的主要原因,故不能用于減緩金屬的腐蝕 | |
C. | 鋼鐵電化學腐蝕的兩種主要類型其主要區(qū)別在于水膜的pH不同引起負極反應的不同 | |
D. | 無論哪種類型的金屬腐蝕,其實質(zhì)都是金屬被氧化 |
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A. | 該反應為吸熱反應 | B. | CO2分子由極性鍵形成的極性分子 | ||
C. | HCHO分子中有3個σ鍵,1個π鍵 | D. | 每生成1.8gH2O消耗2.24L O2 |
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A. | 分子中鍵角小于109.5.是因為氮原子軌道雜化類型為sp2雜化 | |
B. | 分子中的所有原子均達到8電子穩(wěn)定結(jié)構(gòu) | |
C. | NCl3分子是非極性分子 | |
D. | NBr3 比NCl3易揮發(fā) |
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A. | 工業(yè)上粗硅的制備和提純 | B. | 工業(yè)上從海水中提取溴或鎂 | ||
C. | 工業(yè)上采用“侯氏制堿法”制純堿 | D. | 工業(yè)上利用合成氨實現(xiàn)氮的固定 |
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A. | 將少量過氧化鈉放入水中:Na2O2+H2O═2Na++2OH-+O2↑ | |
B. | 硫酸溶液與氫氧化鋇溶液反應:Ba2++SO42-═BaSO4↓ | |
C. | 氯氣與水反應:Cl2+H2O═Cl-+2H++ClO- | |
D. | 硅酸鈉溶液中通入過量CO2:SiO32-+2CO2+2H2O═H2SiO3↓+2HCO3- |
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A. | 常溫下,23 g NO2和N2O4的混合氣體中含有NA個氧原子 | |
B. | 1 mol氯氣與足量的氫氧化鈉溶液反應電子轉(zhuǎn)移總數(shù)為2NA | |
C. | 500 mL1 mol•L-1 MgCl2溶液中含有Cl-數(shù)目為0.5NA | |
D. | 標況下11.2 L H2O與4.0gCH4所含氫原子個數(shù)均為NA |
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A. | 13 | B. | 14 | C. | 15 | D. | 不能確定 |
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