13．現(xiàn)用18.4mol/L的濃H₂SO₄來配制500mL0.2mol/L的稀H₂SO₄．可供選擇的儀器有：①玻璃棒②燒瓶③燒杯④膠頭滴管⑤量筒⑥托盤天平⑦藥匙．
請(qǐng)回答下列問題：
（1）上述儀器中，在配制稀H₂SO₄時(shí)不需要使用的有②⑥⑦（填代號(hào)），還缺少的儀器是500mL容量瓶．
（2）將所配制的稀H₂SO₄進(jìn)行測(cè)定，發(fā)現(xiàn)濃度大于0.2mol/L．請(qǐng)你分析配制過程中可能引起濃度偏高的原因（答出兩點(diǎn)）移液后未冷卻立刻定容、定容時(shí)俯視刻度線．

12．高錳酸鉀在實(shí)驗(yàn)室和工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)中有廣泛的用途．實(shí)驗(yàn)室以二氧化錳為主要原料制備高錳酸鉀．其部分流程如下：

（1）第①步加熱熔融應(yīng)在鐵坩堝中進(jìn)行．而不用瓷坩堝的原因是SiO₂+2KOH$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$K₂SiO₃+H₂O（用化學(xué)程式表示）．
（2）第④步通入CO₂，可以使Mn片發(fā)生反應(yīng)．生成MnO₄^-和MnO₂．反應(yīng)的離子方程式為3MnO₄^2-+2CO₂=2MnO₄^-+MnO₂↓+2CO₃^2-．則完成反應(yīng)時(shí)，轉(zhuǎn)化為KMnO₄的占全部K₂MnO₄的百分率約為66.7%（精確到0.1%）．
（3）第⑤步趁熱過濾的是減少過濾的損耗．
（4）第⑥步加熱濃縮至液面有細(xì)小晶體析出時(shí)．停止加熱．冷卻結(jié)晶、過濾、洗滌、干燥．干燥過程中．溫度不宜過高．其原因是2KMnO₄$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$K₂MnO₄+MnO₂+O₂↑（用化學(xué)方程式表示）．
（5）H₂O₂和KMnO₄，都是常用的強(qiáng)氧化劑．若向H₂O₂溶液中滴加酸性高錳酸鉀溶液．則酸性高錳酸鉀溶液會(huì)褪色．寫出該反應(yīng)的離子方程式：2MnO₄^-+6H⁺+5H₂O₂=2Mn²⁺+8H₂O+5O₂↑．該反應(yīng)說明H₂O₂的氧化性比KMnO₄弱（填“強(qiáng)”或“弱”）．

11．晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備純硅的主要步驟如下：
①高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅；
②粗硅與干燥 HCl 氣體反應(yīng)制得 SiHCl₃：Si+3HCl$\frac{\underline{\;300℃\;}}{\;}$SiHCl₃+H₂；
③SiHCl₃與過量 H₂在1 000～1 100℃反應(yīng)制得純硅．已知 SiHCl₃能與 H₂O 強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃．
請(qǐng)回答下列問題：
（1）第①步制備粗硅的化學(xué)方程式為SiO₂+2C $\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+2CO↑．
（2）粗硅與 HCl 反應(yīng)完全后，經(jīng)冷凝得到的 SiHCl₃（沸點(diǎn)33.0℃）中含有少量 SiCl₄（沸點(diǎn) 57.6℃）和 HCl（沸點(diǎn)-84.7℃），提純 SiHCl₃采用的方法為分餾．
（3）用 SiHCl₃與過量 H₂反應(yīng)制備純硅的裝置如圖（熱源及夾持裝置略去）：

①裝置B中的試劑是濃硫酸．裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是使滴入燒瓶中的SiHCl₃氣化．
②裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為SiHCl₃+H₂ $\frac{\underline{\;1000-1100℃\;}}{\;}$Si+3HCl．
③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功，操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性，控制好反應(yīng)溫度以及通一段時(shí)間H₂，將裝置中的空氣排盡；． ④SiHCl₃遇水劇烈反應(yīng)生成 H₂SiO₃、HCl 和另一種物質(zhì)，寫出配平的化學(xué)方程式SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃+H₂↑+3HCl．

10．在一定溫度下，將4mol SO₂與2mol O₂放入4L的密閉容器中，在一定條件下反應(yīng)，2SO₂+O₂?2SO₃．10min 時(shí)達(dá)到平衡狀態(tài)．此時(shí)容器內(nèi)壓強(qiáng)比反應(yīng)前減少20%，計(jì)算SO₂的轉(zhuǎn)化率為60%．

9．固體碘化銨置于密閉容器中，加熱至一定溫度后恒溫，容器中發(fā)生反應(yīng)：①NH₄I（s）?NH₃（g）+HI（g）  ②2HI（g）?H₂（g）+I₂（g），測(cè)得平衡時(shí)c（I₂）=0.5mol/L，反應(yīng)①的平衡常數(shù)為20mol²/L²，則下列結(jié)論不正確的是（　�。�

	A．	平衡時(shí)c（NH3）=5mol/L
	B．	平衡時(shí)HI分解率為20%
	C．	混合氣體的平均摩爾質(zhì)量不再發(fā)生變化不可以作為判斷該反應(yīng)達(dá)到平衡狀態(tài)的標(biāo)志
	D．	平衡后縮小容器體積，NH4I的物質(zhì)的量增加，I2的物質(zhì)的量不變

8．在某溫度下，將2molA和3molB充入密閉容器中發(fā)生反應(yīng)：aA（g）+B（g）═C（g）+D（g），5min后達(dá)到平衡（己知該反應(yīng)的化學(xué)平衡常數(shù)為1）．保持溫度不變．將容器體積擴(kuò)大10了倍，A 的轉(zhuǎn)化率不變．則B的轉(zhuǎn)化率為（　　）

A．

60%

B．

40%

C．

24%

D．

4%

7．將1體積A（g）和3體積B（g）混合，在500⁰C和催化劑存在下發(fā)生如下反應(yīng)：2A（g）+B（g）?2C （g）并達(dá)到平衡狀態(tài)，在同溫同壓下測(cè)得此反應(yīng)在平衡前后的氣體密度之比為9/10，此時(shí)A的轉(zhuǎn)化率為（　�。�

A．

90%

B．

80%

C．

45%

D．

10%

6．將固體NH₄I置于密閉容器中，在一定溫度下發(fā)生下列反應(yīng)：①NH₄I（s）═NH₃（g）+HI（g）；②2HI（g）═H₂（g）+I₂（g）達(dá)到平衡時(shí)，c（H₂）=0.5mol•L^-1，c（HI）=5mol•L^-1，則此溫度下反應(yīng)①的平衡常數(shù)為
（　�。�

A．

36

B．

30

C．

25

D．

20

5．某化學(xué)小組采用類似制乙酸乙酯的裝置（如圖），以環(huán)己醇制備環(huán)己烯
已知：

	密度（g/cm3）	熔點(diǎn)（℃）	沸點(diǎn)（℃）	溶解性
環(huán)己醇	0.96	25	161	能溶于水
環(huán)己烯	0.81	-103	83	難溶于水

（1）制備粗品
將12.5mL環(huán)己醇加入試管A中，再加入l mL濃硫酸，搖勻后放入碎瓷片，緩慢加熱至反應(yīng)完全，在試管C內(nèi)得到環(huán)己烯粗品．A中碎瓷片的作用是防止暴沸，導(dǎo)管B除了導(dǎo)氣外還具有的作用是冷凝．
（2）制備精品
①環(huán)己烯粗品中含有環(huán)己醇和少量酸性雜質(zhì)等．加入飽和食鹽水，振蕩、靜置、分層，環(huán)己烯在上層（填上或下），分液后用b （填入編號(hào)）洗滌．
a．KMnO₄溶液     b．Na₂CO₃溶液      c．稀H₂SO₄
②收集產(chǎn)品時(shí)，控制的溫度應(yīng)在83℃左右．
（3）以下區(qū)分環(huán)己烯精品和粗品的方法，合理的是bc．
a．用酸性高錳酸鉀溶液     b．用金屬鈉     c．測(cè)定沸點(diǎn)．

4．亞磷酸二乙酯[HPO（OC₂H₅）₂]為重要的阻燃增塑劑．實(shí)驗(yàn)室采用三氯化磷和無水乙醇制備亞磷酸二乙酯PCl₃+4C₂H₅OH→HPO（OC₂H₅）₂+HCl↑+2C₂H₅Cl+H₂O；
實(shí)驗(yàn)步驟如下：
①將40mL三氯甲烷和36.8g（0.8mol）無水乙醇混合后加入250mL三頸燒瓶中．
②從儀器A中滴加20mL三氯甲烷和27.5g （0.2mol）PCl₃混合溶液，用冰水控溫6～8℃，開動(dòng)攪拌器，約1h滴加完畢．
③將反應(yīng)物倒入燒杯中，用10%的碳酸鈉溶液中和至pH為7～8，再用去離子水洗滌三次，在儀器B中分離．
④減壓蒸餾，收集產(chǎn)品，得23.32g產(chǎn)品．
（1）裝置圖中儀器A叫做恒壓滴液漏斗，與分液漏斗比，滴液時(shí)的優(yōu)點(diǎn)是使溶液能順利滴下（或能使恒壓滴液漏斗上下壓強(qiáng)相等）；
步驟③中儀器B名稱為分液漏斗，圖中NaOH溶液的作用為吸收生成的HCl．
（2）用碳酸鈉溶液洗滌的目的是除去PCl₃、HCl等酸性物質(zhì)；用去離子水洗滌的目的是除去Na₂CO₃等鹽及部分C₂H₅OH．
（3）減壓蒸餾除得到產(chǎn)品外還可回收的有機(jī)物有CHCl₃、C₂H₅Cl、C₂H₅OH（寫兩個(gè)的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式）．
（4）從無水乙醇利用角度計(jì)算，本次實(shí)驗(yàn)產(chǎn)率為84.5%（填數(shù)值）．