----3分電荷作勻速圓周運(yùn)動(dòng)的向心力由洛侖茲力提供 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

(14分)如圖所示,在正方形區(qū)域abcd內(nèi)充滿方向垂直紙面向里的、磁感應(yīng)強(qiáng)度為B的勻強(qiáng)磁場。在t=0時(shí)刻,一位于正方形區(qū)域中心O的粒子在abcd平面內(nèi)向各個(gè)方向發(fā)射出大量帶正電的粒子,所有粒子的初速度大小均相同,粒子在磁場中做圓周運(yùn)動(dòng)的半徑恰好等于正方形邊長,不計(jì)重力和粒子之間的相互作用力。已知平行于ad方向發(fā)射的粒子在t=t0時(shí)刻剛好從磁場邊界cd上的某點(diǎn)離開磁場,(已知)求:

(1)粒子的比荷;

(2)從粒子發(fā)射到粒子全部離開磁場所用的時(shí)間;

(3)假設(shè)粒子發(fā)射的粒子在各個(gè)方向均勻分布,在t=t0時(shí)刻仍在磁場中的粒子數(shù)與粒子發(fā)射的總粒子數(shù)之比。

 

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(14分)如圖所示,在正方形區(qū)域abcd內(nèi)充滿方向垂直紙面向里的、磁感應(yīng)強(qiáng)度為B的勻強(qiáng)磁場。在t=0時(shí)刻,一位于正方形區(qū)域中心O的粒子在abcd平面內(nèi)向各個(gè)方向發(fā)射出大量帶正電的粒子,所有粒子的初速度大小均相同,粒子在磁場中做圓周運(yùn)動(dòng)的半徑恰好等于正方形邊長,不計(jì)重力和粒子之間的相互作用力。已知平行于ad方向發(fā)射的粒子在t=t0時(shí)刻剛好從磁場邊界cd上的某點(diǎn)離開磁場,(已知)求:

(1)粒子的比荷;
(2)從粒子發(fā)射到粒子全部離開磁場所用的時(shí)間;
(3)假設(shè)粒子發(fā)射的粒子在各個(gè)方向均勻分布,在t=t0時(shí)刻仍在磁場中的粒子數(shù)與粒子發(fā)射的總粒子數(shù)之比。

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(14分)如圖所示,在正方形區(qū)域abcd內(nèi)充滿方向垂直紙面向里的、磁感應(yīng)強(qiáng)度為B的勻強(qiáng)磁場。在t=0時(shí)刻,一位于正方形區(qū)域中心O的粒子在abcd平面內(nèi)向各個(gè)方向發(fā)射出大量帶正電的粒子,所有粒子的初速度大小均相同,粒子在磁場中做圓周運(yùn)動(dòng)的半徑恰好等于正方形邊長,不計(jì)重力和粒子之間的相互作用力。已知平行于ad方向發(fā)射的粒子在t=t0時(shí)刻剛好從磁場邊界cd上的某點(diǎn)離開磁場,(已知)求:

(1)粒子的比荷;
(2)從粒子發(fā)射到粒子全部離開磁場所用的時(shí)間;
(3)假設(shè)粒子發(fā)射的粒子在各個(gè)方向均勻分布,在t=t0時(shí)刻仍在磁場中的粒子數(shù)與粒子發(fā)射的總粒子數(shù)之比。

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如圖所示,在正方形區(qū)域abcd內(nèi)充滿方向垂直紙面向里的、磁感應(yīng)強(qiáng)度為B的勻強(qiáng)磁場。在t=0時(shí)刻,一位于正方形區(qū)域中心O的粒子源在abcd平面內(nèi)向各個(gè)方向發(fā)射出大量帶正電的粒子,所有粒子的初速度大小均相同,粒子在磁場中做圓周運(yùn)動(dòng)的半徑恰好等于正方形邊長,不計(jì)重力和粒子之間的相互作用力。已知平行于ad方向發(fā)射的粒子在t=t0。時(shí)刻剛好從磁場邊界cd上的某點(diǎn)離開磁場,求:(已知

(1)粒子的比荷;

(2)從粒子發(fā)射到粒子全部離開磁場所用的時(shí)間;

(3)假設(shè)粒子源發(fā)射的粒子在各個(gè)方向均勻分布,在t=t0時(shí)刻仍在磁場中的粒子數(shù)與粒子源發(fā)射的總粒子數(shù)之比。

 

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如圖所示,在正方形區(qū)域abcd內(nèi)充滿方向垂直紙面向里的、磁感應(yīng)強(qiáng)度為B的勻強(qiáng)磁場。在t=0時(shí)刻,一位于正方形區(qū)域中心O的粒子源在abcd平面內(nèi)向各個(gè)方向發(fā)射出大量帶正電的粒子,所有粒子的初速度大小均相同,粒子在磁場中做圓周運(yùn)動(dòng)的半徑恰好等于正方形邊長,不計(jì)重力和粒子之間的相互作用力。已知平行于ad方向發(fā)射的粒子在t=t0時(shí)刻剛好從磁場邊界cd上的某點(diǎn)離開磁場,求:(已知

(1)粒子的比荷;

(2)從粒子發(fā)射到粒子全部離開磁場所用的時(shí)間;

(3)假設(shè)粒子源發(fā)射的粒子在各個(gè)方向均勻分布,在t=t0時(shí)刻仍在磁場中的粒子數(shù)與粒子源發(fā)射的總粒子數(shù)之比。

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