【題目】現(xiàn)有三組混合液:①四氯化碳和氯化鈉溶液;②實驗室制蒸餾水;③溴化鈉和單質(zhì)溴的水溶液.分離以上各混合液的正確方法依次是( )
A.分液、萃取、蒸餾B.萃取、蒸餾、分液C.分液、蒸餾、萃取D.蒸餾、萃取、分液
科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】放熱反應CO(g)+H2O(g)CO2(g)+H2(g)在溫度t1時達到平衡,c1(CO)=c1(H2O)=1.0 mol·L-1,其平衡常數(shù)為K1。升高反應體系的溫度至t2時,反應物的平衡濃度分別為c2(CO)和c2(H2O),平衡常數(shù)為K2,則( )
A. K2和K1的單位均為mol·L-1
B. K2>K1
C. c2(CO)=c2(H2O)
D. c1(CO)>c2(CO)
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【題目】為比較Fe3+和Cu2+對H2O2分解的催化效果,某化學研究小組的同學分別設計了如圖甲、乙所示的實驗.下列敘述中不正確的是( 。
A. 實驗中H2O2分解的速率為(1)>(2)
B. 圖乙實驗可通過測定相同狀況下,產(chǎn)生的氣體體積與反應時間來比較反應速率
C. H2O2分解的熱化學方程式2H2O2(l)═2H2O(l)+O2(g)△H>0
D. 圖甲中(1)、(2)兩個實驗中H2O2分解的△H相同
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科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】半導體工業(yè)需要高純硅,粗硅中含有SiO2、Fe2O3、CuO、C等雜質(zhì),提純硅的方法比較多,其中三氯氫硅(有一定毒性)氫還原法和四氯化硅氫還原法應用較為廣泛,下面是實驗室模擬工業(yè)上三氯氫硅氫還原法的基本原理:
已知:①Si+3HCl SiHCl3+H2(主要反應)
Si+4HClSiCl4+2H2(次要反應)
2NaCl+H2SO4(濃)Na2SO4+2HCl↑
②典型硅的重要化合物的部分性質(zhì)如下表:
熔點(℃) | 沸點(℃) | 溶解性 | |
SiHCl3 | -127 | 33 | 易溶于多數(shù)有機溶劑 |
SiCl4 | -23 | 77 | 易溶于多數(shù)有機溶劑 |
(1)粗硅在提純前,需要進行酸、堿預處理,其目的是___________________________________。
(2)下列裝置在實驗室可用于制備HCl氣體的是_____(填字母代號)。
(3)在1100~1200℃條件下,利用圖B在石英管中可以獲得硅,寫出該反應的方程式_______;其燒杯中水的作用是__________________________;該裝置使用石英管而不是普通玻璃管的原因是_________。
(4)三氯氫硅氫還原法用 SiHCl3在圖B中制硅,不足之處有_______________(任意回答一點即可)。
(5)SiCl4與氫氣反應也能得到硅,但反應所需溫度不同,在工業(yè)上往往將三氯氫硅中混入的SiCl4分離后再與氫氣反應,你認為最好的分離方法是______________。
(6)工業(yè)上如果用四氯化硅氫還原法制硅,其原理如下:該方法與用三氯氫硅氫還原法比較,其缺點至少有兩處,分別是_________________。
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【題目】實驗室中需要配制2 mol/L的NaCl溶液950 mL,配制時應選用的容量瓶的規(guī)格和稱取的NaCl質(zhì)量分別是( )
A. 950 mL,111.2 g B. 500 mL,117 g
C. 1 000 mL,117 g D. 1 000 mL,111.2 g
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【題目】常溫下,用 0.1000mol·L-1 NaOH溶液滴定 20.00mL0.1000mol·L-1某一元酸HA溶液,滴定曲線如圖。下列說法正確的是( )
A. HA是強電解質(zhì)
B. 點①所示溶液中:c(A-) >c(Na+)>c(H+) >c(OH-)
C. 點②所示溶液中:c(Na+) =c(HA) +c(A-)
D. 水的電離程度隨著NaOH溶液的滴入,不斷增大
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【題目】下圖為直流電源,為浸透飽和氯化鈉溶液和酚酞試液的濾紙,為電鍍槽.接通電路后發(fā)現(xiàn)上的c點顯紅色,為實現(xiàn)鐵上鍍鋅,接通后,使c、d兩點短路.下列敘述正確的是
A. a為直流電源的負極
B. c極發(fā)生的反應為2H++2e-=H2↑
C. f電極為鋅板
D. e極發(fā)生還原反應
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【題目】短周期主族元素R、W、X、Y、Z的原子序數(shù)依次增大,R的簡單氫化物可用作制冷劑,X是短周期中金屬性最強的元素。Y的簡單離子在同周期元素的簡單離子中半徑最小,由W、X和Z三種元素形成的一種鹽溶于水后,加入稀鹽酸,有黃色沉淀(Z的單質(zhì))析出,同時產(chǎn)生有刺激性氣味的氣體(Z的氧化物)。下列說法正確的是( )
A. 原子半徑:Z>Y>X>W
B. Z的簡單氫化物的熱穩(wěn)定性比W的強
C. Y的氧化物既可溶于R的最高價氧化物對應的水化物水溶液,也可溶于R的氫化物水溶液
D. X與W、Z形成的化合物不少于三種
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【題目】已知反應:2A(g)+B(g)2C(g)
(1)在一個體積為2L的密閉容器中充入6 mol A和3mol B進行上述反應,保持溫度不變,2min后達到平衡,測得混合氣體中B的體積分數(shù)為25%,用A濃度變化表示的化學反應速率為___________,求該溫度下平衡常數(shù)K=______________;
(2)下圖表示在密閉容器中上述反應達到平衡時,由于條件改變而引起反應速率和化學平衡的變化情況,a~b過程中改變的條件可能是________;b~c過程中改變的條件可能是________;請將增大壓強時,反應速度變化情況畫在c~d處。____________
(3)以上反應達平衡后,若此時只將容器的體積擴大為原來的2倍,達新平衡后,容器內(nèi)溫度將______(填“升高”、“降低”或“不變”(假設容器不與外界進行熱交換))。
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