10.從石英砂制取并獲得高純硅的主要化學(xué)反應(yīng)如下:
①SiO2+2C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si(粗)+2CO↑       
②Si(粗)+2Cl2$\frac{\underline{\;加熱\;}}{\;}$SiCl4
③SiCl4+2H2$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si(純)+4HCl
關(guān)于上述反應(yīng)的分析不正確的是( 。
A.①、③是置換反應(yīng),②是化合反應(yīng)
B.高溫下,焦炭與氫氣的還原性均弱于硅
C.任一反應(yīng)中,每消耗或生成28 g硅,均轉(zhuǎn)移4 mol電子
D.在第三個(gè)反應(yīng)中,SiCl4作氧化劑

分析 A.根據(jù)置換反應(yīng)、化合反應(yīng)的特征判斷反應(yīng)類型;
B.氧化還原反應(yīng)中還原劑的還原性大于還原產(chǎn)物的還原性;
C.Si原子核外最外層有4個(gè)電子,一般表現(xiàn)為+4價(jià);
D.在第三個(gè)反應(yīng)中,SiCl4硅化合價(jià)降低作氧化劑.

解答 解:A.①、③時(shí)一種單質(zhì)和一種化合物反應(yīng)生成另一種單質(zhì)和另一種化合物的反應(yīng),屬于置換反應(yīng),②是化合反應(yīng),故A正確;
B.氧化還原反應(yīng)中,還原劑的還原性大于還原產(chǎn)物的還原性,①、③反應(yīng)可說明焦炭與氫氣的還原性均強(qiáng)于硅,故B錯(cuò)誤;
C.Si原子核外最外層有4個(gè)電子,一般表現(xiàn)為+4價(jià),所以任一反應(yīng)中,每消耗或生成28g硅,均轉(zhuǎn)移4mol電子,故C正確;
D.在第三個(gè)反應(yīng)中,SiCl4硅化合價(jià)降低作氧化劑,故D正確.
故選B.

點(diǎn)評(píng) 本題考查硅的制備,題目難度不大,注意化學(xué)反應(yīng)原理和反應(yīng)類型的判斷.

練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:解答題

20.孔雀石主要含Cu2(OH)2CO3,還含少量Fe、Si的化合物.某工廠以孔雀石為主要原料制備 CuSO4•5H2O及納米材料G,主要步驟如圖1:

已知該條件下,通過調(diào)節(jié)溶液的酸堿性而使Fe3+、Fe2+、Cu2+生成沉淀的pH 分別如下:
物質(zhì)Fe(OH)3 Fe(OH)2Cu(OH)2
開始沉淀時(shí)的pH2.27.64.7
完全沉淀時(shí)的pH3.29.66.4
請(qǐng)回答下列問題:
(1)在相同溫度時(shí)溶度積的相對(duì)大。篕sp[Fe(OH)2]>(填“>”或“<”)Ksp[Cu(OH)2].
(2)溶液A中的金屬離子有Cu2+、Fe2+、Fe3+.試劑①是一種氧化劑,目的是氧化Fe2+(填離子符號(hào)).該工廠選用試劑①最好為下列中的b(填代號(hào)).
a.Na2O2 b.H2O2   c.Cl2d.KSCN
(3)根據(jù)如圖2有關(guān)數(shù)據(jù),你認(rèn)為工業(yè)上氧化操作時(shí)應(yīng)采取的措施是溶液溫度控制在80℃,pH控制在1.5,氧化時(shí)間為4小時(shí)左右.
(4)向溶液B中加入試劑②的化學(xué)式為CuO,操作Ⅰ的名稱是過濾.
(5)欲測(cè)定溶液A中Fe2+的濃度,可用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定,反應(yīng)中MnO4-被還原為Mn2+,則該反應(yīng)的離子方程式為MnO4-+5Fe2++8H+=Mn2++5Fe3++4H2O.取A溶液20.00mL,用去0.0240mol/L KMnO4溶液16.00mL時(shí)恰好達(dá)到滴定終點(diǎn),則A溶液中Fe2+濃度為0.096mol/L.

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:選擇題

1.實(shí)驗(yàn)室中需要配制2mol/L的NaCl溶液950mL,配制時(shí)應(yīng)選用的容量瓶的規(guī)格和稱取的NaCl的質(zhì)量分別是
( 。
A.950 mL    111.2 gB.500 mL     117.0 g
C.1000 mL   117.0 gD.1000 mL    111.2 g

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:解答題

18.對(duì)于可逆反應(yīng):mA(g)+nB(g)?pC(g)+qD(g),在一定的溫度下的任意時(shí)刻,反應(yīng)物的濃度和生成物的濃度有如下關(guān)系:Qc=Cp(C)•Cq(D)/Cm(A)•Cn(B),叫該反應(yīng)的濃度商.
(1)化學(xué)平衡常數(shù)只與溫度有關(guān),與反應(yīng)物或生成物的濃度無(wú)關(guān).
(2)Qc<K,反應(yīng)向正反應(yīng)方向進(jìn)行
Qc=K,反應(yīng)處于平衡狀態(tài)
Qc>K,反應(yīng)向逆反應(yīng)方向進(jìn)行
(3)若升高溫度,K值增大,則正反應(yīng)為吸熱反應(yīng)(填“吸熱”或“放熱”).
若升高溫度,K值減小,則正反應(yīng)為放熱反應(yīng)(填“吸熱”或“放熱”).
(4)寫出下面可逆反應(yīng)Fe(s)+CO(g)?Fe(s)+CO2(g)的平衡常數(shù)表達(dá)式K=$\frac{c(C{O}_{2})}{c(CO)}$
(5)若N2(g)+3H2(g)?2NH3(g)的平衡常數(shù)為K1,
$\frac{1}{2}$N2(g)+$\frac{3}{2}$H2(g)?NH3(g)的平衡常數(shù)為K2
NH3(g)?$\frac{1}{2}$N2(g)+$\frac{3}{2}$H2(g)的平衡常數(shù)為K3;
寫出K1和K2的關(guān)系式:K1=K22
寫出K2和K3的關(guān)系式:K2•K3=1.
寫出K1和K3的關(guān)系式:K1•K32=1.

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:填空題

5.在工業(yè)生產(chǎn)和日常生活中經(jīng)常用到下列物質(zhì):1:Si.2:(NH42SO4 3:Cl2.4:SiO2.其中,可用:
于制造硅芯片的是1(填序號(hào),下同);可用于制造漂白粉的是3;可用作化肥的是2;可用于制造光導(dǎo)纖維的是4.

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:選擇題

15.下列離子方程式,正確的是( 。
A.用小蘇打治療胃酸過多:2H++CO32-═H2O+CO2
B.氯化鋁溶液中加入過量氨水:Al3++4NH3•H2O═AlO2-+4NH4++2H2O
C.向NaHSO4溶液中滴加Ba(OH)2溶液至恰好為中性:2H++SO42-+Ba2++2OH-═BaSO4↓+2H2O
D.碳酸氫鈉溶液與過量的氫氧化鈣溶液:Ca2++2HCO3-+2OH-═CaCO3↓+CO32-+2H2O

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:選擇題

2.下列物質(zhì)所形成的晶體中陰陽(yáng)離子的個(gè)數(shù)比為1:1的是(  )
A.Na2O2B.NaHSO4C.HClD.H2O

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:填空題

19.電石中碳化鈣可以制取乙炔氣體,制取時(shí),將反應(yīng)產(chǎn)生的氣體排水,測(cè)量出水的體積,可計(jì)算出標(biāo)準(zhǔn)狀況下乙炔的體積,從而測(cè)定電石中碳化鈣的含量:
(1)實(shí)驗(yàn)室制取乙炔氣體的方程式:CaC2+2H2O→C2H2↑+Ca(OH)2
(2)若用下列儀器和導(dǎo)管組裝實(shí)驗(yàn)裝置:
序號(hào)123456
導(dǎo)管及儀器
每個(gè)橡皮塞上都打了兩個(gè)孔
如果所制氣體流向從左向右時(shí),上述儀器和導(dǎo)管從上到下,從左到右直接連接的順序(填各儀器,導(dǎo)管的序號(hào))是6接3接1接5接2接4.
(3)儀器連接好后,進(jìn)行實(shí)驗(yàn)時(shí),有下列操作(每項(xiàng)操作只進(jìn)行一次)
①稱取一定量電石,置于儀器3中,塞緊橡皮塞;  ②檢查裝置的氣密性  ③在儀器6和5中注入適量水;  ④待儀器3恢復(fù)至室溫時(shí),量取儀器4中水的體積(導(dǎo)管2中水的體積忽略不計(jì))  ⑤慢慢開啟儀器6的活塞,使水逐滴滴下至不發(fā)生氣體時(shí),關(guān)閉活塞.正確操作順序是B
A.①③②⑤④B.②①③⑤④C.①③⑤④②
(4)若實(shí)驗(yàn)中產(chǎn)生的氣體存在難聞的氣味,且測(cè)定結(jié)果偏大,這是因?yàn)殡娛泻须s質(zhì)氣體,可以用硫酸銅溶液或氫氧化鈉溶液加以除去.

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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:選擇題

20.將一小塊鈉投入盛有5mL飽和石灰水的試管中,不可能觀察到的現(xiàn)象是( 。
A.鈉熔成光亮的小球,在液面四處游動(dòng)
B.有氣體產(chǎn)生
C.溶液底部有銀白色的物質(zhì)
D.溶液變渾濁

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同步練習(xí)冊(cè)答案